中古 ADE / KLA / TENCOR 351 #9390213 を販売中

ADE/KLA/TENCOR 351は、高速かつ高精度に設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。1。5 μ mの最小フィーチャー幅で最大3nm分解能の欠陥を検出できます。このシステムは、デュアル高分解能光学センサとレーザー共焦点顕微鏡を採用しており、高スループットを実現し、1時間あたり最大100個のウエハを検査することができます。高速・高分解能のレーザー顕微鏡2台を搭載し、半導体ウェーハの地形特性と位相特性を同時に測定します。高解像度かつ高速にデータを取得できるため、各ウェハをリアルタイムで完全に表示できます。これは、手動検査中に欠落した欠陥を検出および修正するのに役立ちます。さらに、このツールは自動検出、分類、測定、分析機能で完全に自動化されています。ADE ASPECT™プラットフォーム上に構築されたアセットには、ウェーハ表面に沿って均一な信号取得を保証するOn-Wafer- Focus™技術が搭載されています。また、広いスペクトルバンドを備えているため、さまざまな光周波数にわたる集積回路（IC）検査に適しています。ADE 351のインタラクティブなユーザーインターフェイスにより、ユーザーフレンドリーであり、手動および自動化された欠陥レビュープロセスと容易に統合できます。さらに、装置はリアルタイムの画像キャプチャとデータ分析が可能です。また、コントラスト感度、画像解像度、色空間を調整するためのさまざまな設定が装備されています。このシステムは、欠陥の検出と検出に費用対効果が高く信頼性が高いため、半導体製造業界において貴重な資産となっています。欠陥のあるウエハであれ、高度なICであれ、KLA 351はその作業に任されており、幅広い用途に最適なコンポーネントを生産できます。