中古 QUANTRONIX DRS 840 #9396110 を販売中

QUANTRONIX DRS 840は高性能マスクの生成および生産装置です。マスク基板や構造物の検査、特性評価、製造など、高度なマイクロリソグラフィー用途向けに設計されています。このシステムは、標準的な単層マスクから、正確な登録と重要なオーバーレイ精度を持つ多層マスキングシステムまで、幅広いフォトマスクを製造することができます。DRS 840は、スループットを最適化し、コストを削減するスマート機能を備えた、産業用スケールマイクロリソグラフィ向けの費用対効果の高いソリューションです。このユニットは、マスクオーサリング、マスク検査、および計測ツールのQUANTRONIXイノベーションスイートと統合されています。これには、フォトマスクを正確に生成する高度なパターニングアルゴリズムを備えた強力で自動化されたマスクオーサリングマシンが含まれます。高感度の自動マスク検査ステーションを備え、フォトマスクの欠陥を迅速に特定し、サブミクロンスケールまで構造を詳細に分析するための最先端の計測ツールを備えています。これらの要素はすべて、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスで簡単に操作および制御できます。QUANTRONIX DRS 840は、EAA、正、負、およびMDO（多次元OPC）を含むフォトマスク基板およびパターンの広い範囲を可能にします。アセットは、250 nmから25 μ mまでの幅広いスポットサイズにも対応できます。このモデルには、真空チャックが内蔵されているため、マスクの積み降ろしが迅速かつ簡単に行えます。また、プロセスの一貫性と再現性を確保するために、プロセスモニターを内蔵しています。DRS 840は、一貫した信頼性の高い生産プロセスを提供するように設計されています。2。5秒の高速露出時間を提供し、正確な露出を確保するためにオートフォーカスおよびオートキャリブレーション機能を備えています。また、レーザー出力レベルとビーム品質を常に測定し、劣化やその他の潜在的な問題を報告するインラインレーザー監視装置も含まれています。QUANTRONIX DRS 840は、無駄を最小限に抑え、コストを削減し、スループットを最適化するように設計されています。マスクレベルの自動基板制御、自動露出再現性、および自動汚染検出機能を提供します。また、ユーザーが露出をシミュレートし、複雑なフォトマスクパターンを分析することができる高度に構成可能なソフトウェアツールも含まれています。このシステムはプロセス制御能力を備えており、異なる材料や基板要件に合わせてプロセスをカスタマイズする柔軟性をユーザーに提供します。DRS 840は高度のフォトマスクの生産のための優秀な選択です。その高度な機能と洗練されたオートメーションにより、あらゆる産業用マイクロリソグラフィ操作に最適です。洗練されたフォトマスクを製造し、正確で再現性のある生産結果を保証するために必要な精度と信頼性を提供すると同時に、産業規模のアプリケーションの費用対効果の高いソリューションとしても役立ちます。