中古 MICRONIC Mach 2 #9258989 を販売中

MICRONIC MACH 2マスク生成・製造装置は、マイクロエレクトロニクス用途向けの様々な物理マスクの作成を可能にする汎用性の高い高精度機器システムです。このユニットは、フォトリソグラフィと電子ビーム（e-beam）技術を使用して、基板上および基板を介してマスクを生成および処理します。プロトタイピング、高収量マスク製造、QC/QAオペレーションに必要な柔軟性と精度を提供します。Mach 2は300mmウェーハステージを備えており、x、 y、 z軸に沿ってマスク作業面を移動させることができます。ナビゲーションツールの精度は0。1 μ mで、移動速度は最大140 mm/sです。標準、マルチマスク、マルチステップ方式が可能です。2kWイオンソースと6軸ポジショニングアセットにより、幅広いデバイスを直径6インチまでのマスクにパターン化できます。イオンソースは、CF4またはArイオンエッチングプロセスのいずれかを使用する場合に最適な線量制御を提供します。MICRONIC Mach 2は、自動精密ウェーハアライメントモデルを採用し、最大150mmのマルチステップアライメントと生産マスク作成が可能です。Mach 2は、1つの基板上で最大0。35 μ mの解像度と最大500 μ mの機能サイズの物理画像を作成するために使用できます。比較およびQC/QAプロセスの場合、MICRONIC Mach 2は生産マスク画像もデジタルビットマップ（DFTファイル）として出力します。Mach 2は、マスクの生成と生産をより速く、より効率的に、より正確にしています。高度なフォトリソグラフィとeビーム技術を使用することで、迅速なスループットと一貫して高精度のフォトリソグラフィックパターンマスクの生産を提供します。また、大規模な作業領域を処理する能力により、プロトタイピング、生産QA/QCプロセスおよびその他のアプリケーションに適しています。