中古 MICRONIC 6D-2V #9259005 を販売中

製造業者
MICRONIC
モデル
6D-2V
ID: 9259005
ヴィンテージ: 2014
Laser system West wind spindles Electronic depth control and broken bit detection Indexing pressure foot Linear drive motors: X, Y, Z Laser diameter check and dynamic run out,: 22" x 30" SIEB and MEYER 84 controllers Operating system: Windows 7 HITACHI Cassette system 2014 vintage.
MICRONIC 6D-2V Mask Generation&Production Equipmentは、高性能な半導体デバイス製造ソリューションです。6D-2Vシステムは、シリコンベースのプロセスと1〜6ミクロンのアプリケーション用に設計されています。優れた6軸生産プラットフォームを備えており、歩留まりとスループットにおいて最高の精度と精度を保証します。高度なパターンアライメントのステージを個別に調整可能な独自のマスクアライナープラットフォーム、正確なマスク位置決めのための高精度スキャンユニット、および複数のハードウェアおよびソフトウェアアプリケーションを処理するための高速マスクアライメントコントローラを備えています。MICRONICの6D-2V機械は大量の半導体メーカーの操作を高めることに向けられたいろいろな特徴を提供します。ワーキングウエハのダイレクトイメージング用のシングルステージウェハツーマスクツールを搭載しています。この機能により、最大50mmのデバイスを外部トラッキングなしで直接イメージすることができます。また、最大200mmのフォトマスク用の安定した高解像度マスク生成を可能にするユニークな二段ウェハツマスクアセットも提供しています。高帯域幅、低ノイズの高電圧アンプを使用すること6D-2V、効率的かつ正確なパターンイメージ変換により、4ミクロンの露光精度を実現します。光学パスの改善により、信頼性の高いスループットと最小限の再加工が保証されます。また、最先端の光学機器は、1フレームにつき最大2000ステップの露光ステップの広いダイナミックレンジを提供し、優れた収差性能を備えています。MICRONICの6D-2Vシステムはまた最高のマスクの決断およびイメージ投射の正確さを保障する統合された抵抗および反射防止コーティング(ARC)の層の機能を提供します。また、多層イメージングと検査のコストを削減するために、準拠した多層マスクのマージが装備されています。マルチレイヤーマスクのマージは、正確な位置決めとレイヤー間の適切なアライメントも保証します。6D-2Vユニットは、2Dマスクと3Dマスクの両方に高速、低ノイズの高速マスク検査機を提供します。光学画像検出、エッジ検出、点線円検出、偽パターン画像検出など、さまざまな検査レポートをサポートしています。高精度なアライメントツールにより、パターン間の登録を完璧に行うことができます。MICRONIC 6D-2Vアセットには、収納キャビネット、マルチステーション掃除機、パターンアライメント調整マニュアルデバイス、マスクアライメントおよびメンテナンス用ツールキット、製品トレーサビリティモデルなど、さまざまな追加アクセサリーも含まれています。また、マスクアライメントをスピードと精度で行うことができる信頼性の高い自動アラインユニットを提供しています。超低熱流れおよび低い振動構造6D-2Vまた長期の完全な安定性を保障します。高精度オプティクス、パターンマスク登録、オートメーション機能を備えたMICRONIC 6D-2V装置は、主要なマスク生産システムです。高分解能、スループット、精度、高精度な半導体生産を実現します。
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