中古 ETEC Mebes 4500 #9087990 を販売中

ETEC Mebes 4500は、フォトマスクを生成および製造するための包括的なツールを備えた高性能マスク生成および生産装置です。プロセッサ、デジタル信号処理、メモリ、アナログ混合信号、高速ロジックなど、幅広い半導体プロジェクトに対応します。Mebes 4500は、高度なマスクレイアウトサービスをサポートするマスク生成と生産のための統合システムを備えています。また、強力なマスク設計データベースと強力なマスク検査機能が含まれています。このユニットは完全に自動化され、高速なマスク開発と高効率生産スループットを可能にするように設計されています。このマシンは、選択可能なマスクライティングツール（MPCエミュレータ）と、ピクセルコンテンツ分析、自動欠陥検出、フォルト分離、光学イメージング機能などの高度な検査および測定機能を備えたマスク検査資産を提供します。これにより、ユーザーは正確で高品質のマスクを迅速に作成し、オペレータからの対話を最小限に抑えることができます。ETEC Mebes 4500は、極めて正確な結果を得るために設計された高度なリソグラフィーツールも備えています。ETECの設計プラットフォームは、調節可能な露光量、制御された偏光照明、および減らされた偏光効果などの最新の技術を備えた高速リソグラフィ機能を提供します。このプラットフォームには、リソグラフィ処理を最適化するための高度なシミュレーション機能も含まれています。また、Mebes 4500は、一貫した信頼性の高い操作を保証する自動マスク操作モデルで設計されています。この装置は、マスクの製造と検査、ルーティング、レイアウトの最適化、設計規則のチェック、および検証のための強力なツールを提供します。また、リソグラフィーパラメータの指定、シミュレーション、自動フィッティング、OPCなど、自動化されたタスクのための強力なソフトウェアアプリケーションと分析プログラムも提供しています。さらに、ETEC Mebes 4500は、高度なマスク加工、テスト、および後処理機能の豊富なスイートを提供します。このシステムは、高度なデータ操作とデータ管理ツールを使用して設計されており、ユーザーはマスク生産プロセス全体を通じてマスクデータを迅速かつ簡単に追跡することができます。全体として、Mebes 4500は、正確で高品質のフォトマスクを作成および作成するための高度な機能を提供する包括的なユニットです。高度なマスクレイアウトサービスとリソグラフィーシミュレーションをサポートする最先端のリソグラフィーツールを備えています。また、自動化されたマスク操作とデータ管理ツール、および高度なマスク製造、検査、後処理機能のスイートを提供しています。その結果、幅広い半導体プロジェクトに最適なソリューションとなります。