中古 ETEC Mebes 4500 #9087976 を販売中

ETEC Mebes 4500は、石版マスクの製造プロセスを合理化するために設計されたマスク生成および生産装置です。このシステムは、既存の設計データを生成またはクリーンアップすることができ、その結果、最適化されたアートワークがリトグラフ制作の準備ができています。Mebes 4500は、優れた歩留まりと生産性を提供するために構築されています。このハードウェアには、低ノイズ出力の複雑なマスクパターンが可能なハイエンドのフォトンビームリソグラフィが搭載されています。内蔵の欠陥補正機能により、無駄な再作業や修復時間を大幅に短縮します。このユニットは手動ローディング用に設計されており、マスク上のリソグラフィパターン配置を完全に制御できます。このマシンはまた、大量の実行のための自動パターニング移動を実行することができます。高度なイメージング手法により、細部まで忠実に再現できます。様々なフォトマスク基板をサポートし、従来の半導体デバイスとエキゾチックな半導体デバイスの両方のマスクを生成することができます。4500は、生産のターンアラウンドタイムを向上させ、エラーを最小限に抑える幅広い機能を提供します。人間工学に基づいた設計はユーザーフレンドリーで、ロングラン時のオペレータの疲労を軽減します。モジュール式で拡張可能なアーキテクチャにより、ワークフローとユーザーの好みに最適な構成が可能です。このアセットの可変ジョブ分割、インシデント照明補正、コンピュータ支援設計は、マスク製造に最適な機能のほんの一部です。ETEC Mebes 4500マスク生成モデルは、リソグラフィックマスク製造のための効率的でユーザーフレンドリーなツールです。最先端の機能と機能により、最大の歩留まりを可能にしながら、ターンアラウンドタイムと生産エラーを低減します。これらの機能は、高度に構成可能な設計と組み合わせることで、生産レベルのマスク生成に不可欠なツールとなります。