中古 ETEC Mebes 4500-5500 #9081928 を販売中

ETEC Mebes 4500-5500は、大量の高品質フォトマスク製造プロセス用に設計されたマスク生成および生産装置です。このシステムは、電子ビームと光学イメージング技術の両方を利用して、高解像度フォトマスクを作成します。このユニットの中心となるのが、電子ビームライティング（EBW）装置で、電子ビームカラムを自動化してデバイス製造に使用されるフォトマスクを生成します。E-Beamツールは、6〜30 nmのビームサイズを使用して、最大1000万点/秒のスキャン速度を備えています。これにより、分解能を高め、粒子汚染を低減する能力を備えた非常に精密なフォトマスクを作成できます。さらに、Vamis DLP （Digital Light Processing）光露光ユニットを搭載し、標準リソグラフィ解像度レベル（5µm分）と複数の解像度の両方をサポートしています。高解像度機能に加えて、Mebes 4500-5500には、速度と生産性を向上させるために設計された多くの機能があります。これらには、高度なロボット基板処理モデル、調整可能なレーザー誘導測位装置、自動検査および手動スキャン機能を備えた高速フォトマスク検査システムが含まれます。全体として、ETEC Mebes 4500-5500は、精度、速度、精度を提供する非常に高度で信頼性の高いマスク生成および生産ユニットです。その特徴は、粒子の汚染を最小限に抑えてタイトな仕様に対応する高品質のフォトマスクを作成することができます。これにより、大量のアプリケーションに最適であり、製造プロセスにおけるリソグラフィ機能をアップグレードするための費用対効果の高いソリューションです。