中古 ETEC Mebes 4 #9252186 を販売中

ETEC Mebes 4は、商業用と軍事用の両方の集積回路マスクを製造する目的で設計された先進的なマスク生成および生産装置です。このシステムは、さまざまなソフトウェアおよびハードウェアコンポーネントの統合を可能にするオープンアーキテクチャプラットフォームに基づいています。ステッパー、スキャン電子ビーム、ラスター、ベクタープロッタなど、さまざまなリソグラフィープロセスをサポートできます。このユニットの最初のモデルは、さまざまな高度なアルゴリズムを使用して集積回路マスクを効果的に生成する方法を提供することを目的として構築されました。それは最適な結果を提供するために多くの機能を採用しています。これらの機能には、過剰露出、サイドウォールの平滑化、ミスアライメント、絞りサイズを補正する機能が含まれます。また、マスクパターンを高解像度で定義し、露出制御を行う機能も備えています。これに加えて、Mebes 4には、さまざまなウェーハサイズの集積回路マスクの生成をサポートする機能があります。この能力は、異なるアプリケーションに適したマスクの生産を可能にします。また、高精度な研削・エッチング技術を駆使し、高品質なマスクを製作しています。ソフトウェアの面では、ETEC Mebes 4アセットは、よく知られているPhoton Exposure Tool （PET）ソフトウェアを実行します。このソフトウェアは、高品質の集積回路マスクを作成するために必要なツールをユーザーに提供するように設計されています。また、定義済みレイアウトテンプレートの大規模なライブラリも含まれており、さまざまなレイアウト定義の作成に使用できます。このモデルは高度に自動化されており、自動アライメント、配置、露出、製造などの自動プロセスを可能にします。集積回路マスクの製造において、高解像度構造や大規模構造を1回の操作で定義できるなど、強力なツールとなる多くの機能を誇っています。また、Mebes 4は、現在の業界標準を満たすマスクを作成するために必要な設計規則をユーザーに提供します。これは、設計規則チェッカー（DRC）の実装と、構成可能な設計規則のライブラリによって行われます。この装置は、洗練されたアルゴリズムとともに、集積回路マスクを製造するための貴重なツールです。