中古 ETEC 4500F #152934 を販売中

ETEC 4500F Mask Generation&Production Equipmentは、半導体メーカーが優れた品質と低コストでフォトマスクを生産できるようにする戦略的なローンチシステムです。高度な光学リソグラフィープラットフォーム上に構築され、優れた印刷解像度、高精度、および優れた欠陥検出を提供します。このユニットは、レティクルとブランキングステージの正確な位置決めを可能にする、正確でオープンな視野移動のための最先端の4ジョーステッピングモーションマシンを備えています。ステージング機能のロードとアンロードが完全に自動化されているため、レチクルのロードとアンロードが簡単かつエラーのないようになります。このツールには、フォトマスクの精度を向上させる高度な測定アセットが組み込まれています。マルチインダクションソースセンサーは、低周波数および中周波数の欠陥を検出し、欠陥検出精度を最適化するのに役立ちます。さらに、フォトマスクプリントのインダイアライメントおよびモニタリング用の高精度アライメントステーションをオプションで提供します。4500Fマスクの生成および生産装置はまたデータ入出力の選択の広範な範囲を提供します。高速イーサネットインターフェイスにより、ユーザーは高解像度のデータをすばやく転送できます。さらに、高度でセキュアなDigital Image Transfer （DIT）ユニットを備えており、ユーザーはデジタルデータをローカルの生産環境からワークセンターに移動できるため、データの手動配信は不要です。さらに、マスク作成とデータ入力のための幅広い手順をサポートしています。内蔵のQA機能により、すべての入出力マスクに精度と品質が確認され、最高品質の最終製品のみが納品されます。また、簡単かつエラーのないインストールを可能にするセルフテスト機能を備えています。ETEC 4500F Mask Generation&Production Toolは、生産性とコスト削減のために設計されています。自動メジャーとリアルタイムデータ監視の統合からワンストップ生産/検証ワークフローまで、生産性を向上させる費用対効果の高いソリューションを幅広く提供します。最後に、この資産を使用して、簡単かつ迅速に印刷物を生産したり、大量の生産ランを製造したりすることができます。