中古 ELECTROMASK / TRE MM251 #9226908 を販売中

ELECTROMASK/TRE MM251は、リソグラフィ業界向けに設計された最先端のマスク生成および生産設備です。このシステムは、電子ビーム（EB）リソグラフィ、シリアルデータまたはイメージマッピング電子リソグラフィ、およびダイレクトライトエレクトロンビーム（DWEL）リソグラフィを含むすべてのマスク製造方法において、優れた解像度と精度を提供することができます。このユニットには、電子ビームを制御するために使用される高精度のビームマニピュレータと、電子ビーム画像を作成するために使用されるイメージフィールドジェネレータが含まれています。さらに、露出制御、後処理、マスキングなど、さまざまなプロセスを制御するための複数のコントローラが装備されています。TRE MM251は、スキャンメカニズムの選択肢を備えており、ユーザーは特定のアプリケーションに対して最も正確で効率的なものを選択することができます。これらのオプションには、リニアスキャン、スパイラルスキャン、マルチスキャン、および3次元スキャンが含まれます。また、ベクターデータからデジタル画像まで、さまざまなデータソースをサポートしており、ユーザーはマスクを簡単に作成、表示、変更できます。この資産には、軌道制御、絞り制御、エネルギー拡散制御などの高度な機能もあります。これらの機能は、ユーザーが特定の要件に合わせてマスクをカスタマイズし、精度と解像度を最大化するのに役立ちます。ELECTROMASK MM251は簡単なセットアップとメンテナンスのために設計されています。包括的なユーザーフレンドリーなソフトウェアにより、ユーザーはマスクを簡単に表示、操作、保存、送信できます。さらに、このモデルはオフラインとオンラインマスクの両方のチェックをサポートしているため、ユーザーは生産に提出する前にマスクの精度を確認することができます。全体として、MM251は汎用性が高く、正確で最先端のマスクの生成と生産設備です。このシステムにより、ユーザーはマスキングプロセスを最適化し、より高い解像度と精度で高品質のマスクを作成することができます。また、ユーザーフレンドリーな制御と包括的なソフトウェアにより、セットアップ、操作、メンテナンスが容易になります。ELECTROMASK/TRE MM251は、あらゆるリソグラフィ用途に最適です。