中古 USHIO UX-4440 #293591994 を販売中

USHIO UX-4440 Mask Alignerは、フォトリソグラフィーパターニング専用の高精度機械で、サブミクロンの精度でマスクとウェーハアライメントを可能にします。4 「x4」までの基板のパターニングおよび加工用に設計されており、再現性は± 1 µmです。アライナーは、フォトレジスト光学レンズシステム、自動成膜、およびインポートされた設計データをサポートしているため、複雑な設計で高度に洗練されたウェーハを開発するために不可欠な精密アライメントを作成するのに効果的です。内蔵の高度なコンピューター制御装置は、複雑なトレースモードプログラムと自動エッジファインダー技術を処理することができます。USHIO UX 4440は、最大光学倍率20倍の25mm〜200mm FOVを備え、投影されたマスクパターンを総合的に表示し、アライメントの精度を検証します。直感的なタッチスクリーンと多種多様な機能により、使いやすさ（例：ステップアンドリピート、自動マスク登録）を実現します。ユーザーインターフェイスは、最大10個のユーザー定義のレシピ設定および顕微鏡画像に対してプログラム可能であり、必要に応じてジョブに使用されるプロセスフローの保存と再生を可能にします。UX-4440は、デュアルチャンバー、無毒なドライエッチレジストリムーバーを備えており、さまざまなレジスト材料をサポートし、優れたウェハ品質を実現しています。照射場は長さ430mmで、200W/cm2の最高速度で均一な露光が可能です。UX 4440の光源はカスタマイズ可能で、偏光光とUV光の両方でマスクパターンを正確に揃えることができます。光源とガントリーを内蔵しており、広範囲の露光角度が可能で、同一基板上での狭角・広角露光が可能です。USHIO UX-4440のマイクロプロセッサベースのコントローラは、自動プロセス制御、可動バッチ処理、低温処理などのさまざまな操作を可能にし、高度なウェハ処理に最適です。また、オプションの両面イメージングマシンでウェーハを複数層に加工することも可能で、より複雑なプロセスを実行することができます。USHIO UX 4440マスクアライナーは、高速で正確で信頼性の高いリソグラフィーパターニングを必要とする半導体およびディスプレイメーカーにとって不可欠なツールです。高度な機能と高精度の光学レンズシステムにより、最高品質のマスクアライメントとウェーハ加工に最適です。