中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 300HT #157468 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 300HTは、半導体産業で使用されるリソグラフィープロセス用のハイエンドマスクアライナーです。この装置は、集積回路で使用されるフォトマスクの高分解能かつ高精度なアライメントを保証するように設計されています。フォトマスクの精密アライメントを保証する最先端の光学技術とレーザー技術を搭載しています。SVG Micralign 300HTは、X軸の動きのための2つの水平ビームとY軸の動きのための2つの垂直ビームの4つのビームを配置するために使用します。ビームはレーザダイオードダブルヘテロ接合を使用して生成されます。これは通常、デジタルディスプレイやその他のハイテクなアプリケーションで使用されます。このレーザーはまた精密頻度itervalometerが整列プロセスの間に精密な調節がなされることを保障するために装備されています。また、フォトマスクの正確な位置と相対的なオフセットの両方を考慮したファジーロジックアライメントユニットを内蔵しています。この機械はまたずれによって引き起こされる間違いを償うように設計されています；これにより、ウェーハ上にフォトマスクを正確に配置できます。フォトマスクオーバーレイのリアルタイムプレビューも高性能の顕微鏡を使用して提供され、最高品質の結果を保証します。ASML Micralign 300HTには、温度サーフィンアセットと呼ばれるサーマルイメージングツールも含まれています。このモデルは、アライメントプロセス中にフォトマスクの正確な温度を監視し、最高の精度を保証します。さらに、ベイでのサーマルクロスリンクを維持するのにも役立ちます。これにより、エラーの結果として発生する不良集積回路の数を大幅に削減できます。機器全体は包括的なソフトウェアを使用して管理され、アライメントプロセスに複数の調整を行うことができます。これにより、アライメントプロセスを微調整することが非常に簡単になり、エラーが発生せず、最適なアライメント結果が得られるようになります。全体として、Micralign 300HTは、最高レベルの精度と精度を提供するように設計された高度なマスクアライナーです。その複数の機能により、集積回路の処理に理想的なソリューションとなり、フォトマスクがウェーハに正確かつ厳密に配置されていることを保証します。