中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 240 #128860 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 240は、半導体デバイスの製造におけるフォトリソグラフィ用途に使用される高精度マスクアライナーです。マスクアライナーには、デバイス製造用のフォトマスクの正確かつ正確なアライメントを保証するさまざまな機能が装備されています。SVG Micralign 240は、0。2ミクロンの分解能を備えており、この装置に露出したパターンを組み込むデバイスが可能な限り最高の精度を得ることができます。また、アライメントプロセスにアングルウェッジを導入することで、より複雑なパターンを正確に作成することができます。ASML Micralign 240アライナーは、2つの調整可能なレンズグループを備えています。そのうちの1つは、高精度な位置決めのためのXステージに搭載されています。各レンズグループには、個別のフォーカスとアライメントコントロールノブがあり、正確なアライメントが可能です。ターゲット位置に達すると、ユーザーは真空の助けを借りてマスクがしっかりと保持されていることを確認することができ、パターンが基板に正確に転送されることを確認します。PERKIN ELMER Micralign 240マスクアライメントユニットには、リソグラフィーステージも含まれています。このステージは、複雑なフォトマスクパターンを基板に正確に配置する速度と精度を高める調整可能な照明と露出機能を備えています。アライメントを可能な限り正確に保つために、Micralign 240はオートフォーカス、露光後の計測、自動補正、レンズ収差補正など、多くの高度な技術を備えています。SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 240のミクロンレベル精度により、従来のフォトリソグラフィーシステムよりも信頼性が高く、高品質な半導体電子部品の製造が可能になります。SVG Micralign 240の精密なアライメントとオーバースキャンおよび低耐性の特徴は、精密半導体デバイスの製造に不可欠な最高品質の保証とプロセス制御を提供できることを意味します。ASML Micralign 240は、複雑で精密なパターンを生成することができる汎用性の高い高度なマシンです。その高精度なアライメントと高度な機能の配列は、エンドプロダクトのための最高品質の構造とパフォーマンスを保証します。