中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 751 HT #293615179 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 751 HTは、カバー層および接触層リソグラフィ用のマスクアライナーです。この機械は超高真空環境と露光光学を使用してサブミクロメータの精度を達成しています。これは、機器が再現できる最小の機能サイズです。接触露出時間は2〜200ミリ秒で、カバー層の露出時間は5〜500ミリ秒で調整可能です。さらに、システムにはオートフォーカス、スティグメーター、および自動露出があり、リソグラフィープロセス中の最適なアライメント、露出、フォーカスを確保します。SVG 751 HTアライナーは、カバーレイヤーとコンタクトレイヤーの両方にデュアルソースユニットを備えています。カバーとコンタクトマスクブランクホルダーのスロットを備えた300mmチャックで、大量の基板に対応できる300mmハッチホルダーを搭載しています。ウェーハは正確な真空に接しています。これによりウェーハが動かないようになり、露出時に正確なアライメントが保証されます。この機械には、高いスループット、低ノイズ、および低熱廃棄性を維持した水晶ベースの投影光学が装備されています。水晶光学に加えて、機械にまたリソグラフィの間の露出時間そして力の制御をユーザーに与える調節可能な速度のフレームシャッター機械があります。レンズを平らにするフィールドは、露光プロセス中に平らなフィールドを維持するのにさらに役立ちます。ASML 751 HTには、電子画像処理とロボット制御の進歩を利用した自動プロセス制御ツールがあります。これにより、正確なアライメントと再現可能な露出結果が得られます。また、手動での観察や補正なしに異なる露出プロセスを実行する機能を提供する柔軟性をユーザーに提供します。また、クリーンルーム環境を確保し、粒子の汚染を防ぐためにロードロック、ウエハケージ、ベースバイブレーション抑制を使用する高度な基板処理アセットを備えています。オプションのインライン粒子モニター機能により、ユーザーは基板の汚染を監視および制御できます。PERKIN ELMER 751 HTの動作条件は、一連のアラームやその他の読み出しによって監視されます。これらのアラームにより、ユーザーは直ちにリソグラフィープロセスの正確性または完全性に影響を与える可能性のある変更または問題を通知することができます。これにより、ユーザーは問題に迅速に対処し、潜在的な損傷を最小限に抑えることができます。751 HTは、半導体業界で使用するために特別に設計された高精度で費用対効果の高い信頼性の高いマスクアライナーです。最小限のメンテナンスで安全で管理された作業環境を提供しながら、ユーザーに最高の精度と精度のリソグラフィを生成する能力を提供します。