中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 #9210321 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 661は、半導体デバイスの製造中に高精度マスク登録とオーバーレイ用に設計された高度なウェーハアライメントツールです。この装置は、SVG eビームリソグラフィの精度とASMLプロジェクション光学イメージングの精度を組み合わせています。SVG 661にはシングルパスとダブルパスの両方のオプションがあり、ユーザーは必要なアライメント精度を選択できます。ステッピングタイプのウェーハアライメントシステムは、高度なグラフィカルユーザインタフェース（GUI）を使用して、基板上の事前定義されたパターンの正確なアライメントを迅速に決定します。ASML 661には、パラメータを自動的に調整し、事前に定義されたプリセット位置に基板を揃える音声認識ユニットも含まれています。このマシンは、高解像度の光学パッケージ、イメージングツール、精密ステージを備えています。この光学系は、ウェーハの表面を可視化し、すべてのアライメントポイントが正確に整列され、許容範囲内にあることを確認するために使用されます。イメージング資産は、中電子ビーム源と低エネルギー電子ビーム源で構成されています。低エネルギービームは、電子ビームリソグラフィープロセスの前に基板の欠陥や欠陥を検出するための特性評価に使用されます。661の精密ステージはX、 Y、 Z軸で構成されており、eビームリソグラフィとパターン登録時の正確な動きを可能にします。ステージにはサーボ制御プローブと微細なムーブメント軸も含まれています。微細な動きは、必要に応じて迅速かつ正確な位置補正を可能にします。PERKIN ELMER 661は、3。5ナノメートルまでのオーバーレイ再現性を備え、高いスループットと高精度を備えています。このモデルには、登録とオーバーレイの信頼性を確保するための自動検査ツールと、すべてのリソグラフィック印刷された形状と機能の自動登録も含まれています。SVG/PERKIN ELMER/ASML 661は、幅広いフォトマスクおよび基板材料と互換性があり、マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、MEMSコンポーネントなど、さまざまなアプリケーションに適しています。この装置は、ウェーハ上の複雑なパターンの高速かつ正確なアライメントを求めている半導体ファブリケーターやデバイスインテグレータに最適です。