中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 HT #293827668 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 HTマスクアライナーは、高解像度のマイクロエレクトロニクス基板に特徴をパターン化するために使用できる最先端のリソグラフィ装置です。複雑な形状と構造で高精度なパターンを生成するマスク製作のための高度なツールです。この機械は半導体、太陽電池および表示製造業のようなさまざまな企業で、使用されます。SVG 661 HTマスクアライナーは、光学カラム、照明、フォトマスク、ワークステージ、ビジョンシステム、フォーカス制御、およびSEM/EDX解析などの主要コンポーネントで構成される自動装置ツールです。これらのコンポーネントは、光学カラム、照明、フォトマスク、ワークステージの4つの主要要素からなる完全なマスクアライナーユニットで構成されています。この光学カラムは、対物レンズ、偏光板、四分の一波プレート、ビームスプリッターなどの複数の要素で構成されたユニットで、焦点画像と関連する入射光強度プロファイルを生成するように設計されています。イルミネータは、フォトマスクの表面を照らす光場を生成するために使用される光源です。フォトマスクは微細エッチングされた金属基板で、スピンコーティングされた感光材料が光にさらされ、光と暗い領域のパターンに変換されます。ビジョンマシンは強力で直感的なソフトウェア駆動ツールで、ユーザーはフォトマスク上のさまざまな機能を配置して定義できます。フォーカス制御アセットは多次元で、ユーザーはマスクのイメージングパラメータとフォーカス位置を正確に制御できます。一方、SEM/EDX解析モデルは、異なる表面の特徴と互いの向きについての詳細な情報を提供することにより、リソグラフィー処理に関する貴重な詳細なフィードバックをユーザーに提供します。ASML 661 HTマスクアライナーは、幅広いチップ設計で高精度マスクをパターン化するための強力なツールであり、製造メーカーはハイエンド設計を効率的かつ確実に生産することができます。その高い処理速度により、迅速なターンアラウンドを実現し、自動化されたプロセスと使いやすいコントロールにより、市場投入までの時間を短縮できます。この機械はまた特徴サイズ、ライン幅および間隔の点で極度な精密のマスクを作り出すように設計されています、ユーザーはすべてのプロセスの堅い許容を達成することを可能にします。さらに、デジタル出力により、ユーザーはさまざまな種類のCAM/CADでマスクを直接転送および保管することができ、生産プロセスをさらに合理化できます。