中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9399540 を販売中
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ID: 9399540
Mask aligner
HG Lamp uniformity high: >13%
Scan speed low: 0.34"/s
Frequently unit: Arm stuck
Reworked unit: Assembly gear unit
Motor and gear assembly
Vacuum cups
Air gauge: Auto focus calibration
Offset evaluation: Nozzle
OPC 121: 480 µm
Wafer screws adjustment: 89 cm, -34cm, 163cm
OPC 122: -2.1 µm
Focus coarse adjustment:
OPC 11: -9.5 µm
0.7µm/cm -0.1µm/cm
Open slit unit: 4.9% (13%)
Scan speed: 0.55”/s - 1.045"/s
Input elevator (Height and flag adjustment)
PCB Labelled: Right and left hand card cage
Parameter: OPC 240: -4PPM, 2304: 0 -0.25, -0.1 µm.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HTは、非常に高いスループットウェーハステッパーアプリケーション用に特別に設計された高性能マスクアライナーです。Pentiumプロセッサベースの組み込みマイクロコントローラ、高速統合メモリコントローラ、高速シリアル通信ポートを備えています。SVG 651HTは、マスクや基板の正確なアライメントを保証する高速光学アライメント機構など、さまざまな機能を備えています。この機構は、2つの独立したステージに取り付けられた2つのポジショナーで構成されており、1つ目は高速イメージングに、2つ目は微調整に使用されています。ASML 651 HTの微調整された光学系は、露光時間の大幅な短縮に貢献します。651HTに統合された2段階のアライメントには、ユニークな顕微鏡イメージングプラットフォームも含まれており、マスクと基板の多数の構成を可能にします。この顕微鏡には、微粒子が敏感な静電チャックに付着しないようにするための帯電防止プロテクターが装備されており、イメージング装置は、ウェーハ上のシングルミクロンの特徴を検出するのに十分な感度を備えています。651 HTは、高性能オートフォーカス機能を備えており、1ミクロン以内にウェーハを連続的に検出、測定、再コーカスすることができます。また、統合された高精度アライメントプラットフォームを備えているため、時間をかけずに多数の複雑な露出を素早く調整できます。PERKIN ELMER 651 HTの柔軟なソフトウェアプラットフォームにより、ユーザーはあらかじめ定義されたさまざまなパラメータまたはカスタムのユーザー定義パラメータを探索することができます。強力な機能には、露出領域を移動してリソグラフィ制御を強化し、デバイスの生産サイクルを最適化する機能が含まれます。ユニット全体をテキストベースのコマンドインターフェイスで簡単に操作できます。SVG 651 HTは、低接着露光プロセス向けに設計されており、密閉されたハウジングは光学系の汚染を防ぐのに役立ちます。また、頑丈なボディは、耐熱性に優れた高品位な素材で構成されており、耐衝撃性に優れ、高い振動やESD衝撃に耐えることができます。SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HTは信頼性が高く効率的なウェーハステッピングマシンで、高速およびスループットでも困難で正確なリソグラフィープロセスを実行できます。高度な設計により、ASML 651HTは幅広い複雑な露光プロセスにおいて一貫して高い性能と精度を提供することができ、高速リソグラフィ製造のための優れたツールとなります。
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