中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #293605029 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT Mask Alignerは、半導体集積回路および統合光学系の製造に使用される高精度の機器です。このシステムは、フォトマスク上にレチクルを正確に配置し、2層以上のパターン化されたマスク材料を正確に整列させるために使用され、目的の形状と複雑さの大規模な構造を作成します。レーザー干渉計アライメントと高精度のステッピングモーターとイメージング光学を組み合わせ、450mmウェーハとレチクル領域にわたって0。15mm （10 μ）未満のアライメント精度を実現してσます。このマシンは、光学系、レチクルローディングおよび交換ツール、およびフィルムスキャナを使用して、ナノ加工および大型基板およびレチクルのアライメントのための大きくカスタマイズ可能な視野を備えています。アセットの水平視野と垂直視野は、レチクルでは± 30mm、ウエハーでは± 200mmです。一方、アライメント距離の範囲は0。02 μ m-5。6 mmで、線形5 μ mの解像度で調整されます。また、画像取得技術も充実しており、再現性が高く正確な高さと位置合わせマップを作成することができます。また、ピクセル高さとアライメントデータを保存し、外部PCやデータベースへのデータエクスポートをサポートします。さらに、可視紫外線（UV）イメージングの組み合わせにより、複数のレーザー光源の統合、フォトマスクのアライメント、蒸着速度、オーバーレイ精度の向上をサポートします。SVG 651HTは、オートフォーカス補正やパターン認識センター（COPR）などの高度な補正アルゴリズムの統合を容易にするように設計されています。オートフォーカス、アライメント、ライフモニタリング機能を提供し、高度な生産プロセスに最適です。その自動レチクル交換機能は、レチクルの迅速かつ効率的な交換を可能にし、複数のレチクルを含むプロセスを容易にします。全体として、ASML 651 HTマスクアライナーは、半導体集積回路と統合光学システムを製造するための汎用性と精密なツールです。これは、精度と効率を確保するために、アライメント距離オプションの広い範囲、広い視野と画像技術と補正アルゴリズムの広い範囲を備えています。