中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 #9105485 を販売中

SVG / PERKIN ELMER / ASML 641
ID: 9105485
Mask aligners, 4".
SVG/PERKIN ELMER/ASML 641マスクアライナーは、正確なサブミクロンおよびナノスケールの集積回路を製造するために設計された、高度な光学プロファイリング装置です。この装置は、高度な光学イメージング、パターン配置、およびアライメントの組み合わせを使用して、優れた解像度と速度を提供します。5軸、6×2インチのアライメントステージを備え、マスクと基板上に正確なパターン配置が可能です。最大解像度と焦点のための5インチ(127 mm)の光路、フラットフィールド照明を生成する独自のアライメントされた照明ユニット、照明器具への下向きの光、比類のないディテールと焦点のためのオン軸イメージング光学を備えています。このマシンはまた、0。1ミクロン以下と1ミクロン以下の精度で、単一またはバッチパターンの配置のいずれかを生成する柔軟性を提供します。SVG 641マスクアライナーは、高度なイメージング機能を提供します。それはすべてのパターン配置のための明確で詳細なイメージを提供する高性能のイメージングステージを備えています。精密な画像キャプチャとアライメントのために最適化されたイメージングおよびベストモードのアライメントツールも含まれています。このアセットは、マスクから可能な限り最高の解像度と精度を作り出すように設計されています。このモデルには、生産性と精度を最大限に高めるためのさまざまな機能が搭載されています。測定精度を最大化するための現場校正装置、スマートビジョンガイダンスシステム、およびユニットパラメータを自動的に最適化する特許取得済みの設計オプティマイザを備えています。このマシンはまた、ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、リモート制御と監視のためにネットワークまたはコンピュータに接続することができます。ASML 641マスクアライナーは、集積回路の設計と製造に最適なツールです。その超高解像度イメージングとパターン配置機能は、高度な精密回路の開発にとって非常に貴重なツールです。標準のリソグラフィーシステムよりも高い柔軟性と精度を提供し、最高レベルの効率と精度を確保します。
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