中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 554 HT #293645518 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 554 HTマスクアライナーは、半導体デバイスの製造などのフォトリソグラフィ用途に使用される機器です。マスクから基板にパターンを転送するために使用されます。このシステムは高いスループットと精度を備えているため、パターンの再現性と精度の高い高度な半導体デバイスの製造に適しています。プロジェクションマシンを搭載し、5倍のプロジェクションレンズ、クオーツランプ、フラットフィールドコンデンシングレンズを搭載。クォーツランプは最適な照明と高スループットを確保し、プロジェクションレンズは高解像度の画像を提供し、正確に細部を表示します。投影レンズは0。55のN。A。と最大0。45の数値絞りを持っています。照明素子は、単色レーザー源と、解像度とコントラストを向上させるための回折光素子のセットで構成されています。このツールはまた、0。7から6。0 µmの範囲のステッピングステージを備えています。0。3 µm+/-0。1 µmの絶対ステージ精度により、パターン化されたマスクと基板の正確なアライメントが可能です。反復可能な結果を保障するためには、ステッパーは温度調整され、温度調整されます。ステージはマニュアルまたは自動化された環境で操作できます。ステッパーに加えて、アライナーアセットには、最大4mmのスキャン範囲を持つX-Yステージも含まれています。これは、同じアライメントモデルで複数の基板をオーバーレイするために使用されます。ステッパーおよびX-Yステージには、位置を測定するエンコーダが装備されており、高精度で再現性のある基板アライメントが可能です。この装置には、パターンマスクまたはクロムマスク、またはコンタクトアライメントマスクを供給する自動マスクローダーもあります。マスクチラーは、同じ基板上に複数のマスクを並べて配置することで、より高いスループットを実現します。これは、複数のマスクを正確に配置するための2。4〜4度のステージを備えているため、迅速に行うことができます。SVG 554 HTマスクアライナーは、フォトリソグラフィ用途向けの汎用性と高度なシステムです。高解像度のプロジェクションオプティクス、正確なステッパーとX-Yステージ、自動化されたマスクローダーを備えています。ハイスループットと組み合わせることで、高品質な半導体デバイスの製造に適しています。