中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 340HT #65071 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 340HT Mask Alignerは、半導体製造のための最先端のマスキングおよびリソグラフィ装置です。必要な露出精度と堅牢で信頼性の高いハードウェア設計を組み合わせ、リソグラフィ処理における高い歩留まりを保証します。このシステムは、高品質のゲートマトリックスと独自のフィルム露光プロセスを使用して、8nmから0。5umの露光までの重要なリソグラフィ精度を提供します。このユニットには、1つのユーザーインターフェイスで複数のツールを制御できるフル機能のコントローラが含まれています。これにより、より効率的な生産とより正確な結果を得ることができます。ディープUV （DUV）リソグラフィ、高度な電子ビーム露出、高度な露出制御など、マシンのユニークな露出機能は、その高度な露出コントローラを使用しています。これにより、正確な解像度を必要とするパターンや機能に関しては、より高い精度が保証されます。また、均一な照明技術により露光精度が向上しています。これは、クリティカルオーバーレイ、クリティカルスペーサ、クリティカルレジストレーション、クリティカルラインエッジの粗さなどのさまざまなリソグラフィープロセスや、コンタクトホールやダイアタッチリソグラフィなどの特殊なアプリケーションを支援します。このアセットは、非常に信頼性が高く、垂直モーションアラーム、低速モーションアラーム、ダイナミックフォーカス設定などのさまざまな機能が組み込まれています。さらに、このモデルには統合された精密ステッパーが含まれており、実行量が最も少ない広い領域の正確なステップとパターニングを可能にします。さらに、SVG 340HT Mask Alignerは柔軟性を考慮して設計されており、さまざまな基板との使用に対応しています。この装置はまた、繰り返しアライメントプロセスのための自動プロセスシーケンシングを提供し、小型から中型の基板バッチの処理のためのさまざまなウエハハンドリングシステムに構成することができます。さらに、ASML 340HT Mask Alignerには、高度に洗練されたCRおよびDRオプションが含まれており、自動化、データ処理の改善、プロセス制御の最新機能を提供します。また、ダウンロード不要のテスト、完全なスキャンと露出記録など、完全な診断セットも備えています。PERKIN ELMER 340HT Mask Alignerは、半導体製造のための最先端の洗練された汎用性の高いユニットです。正確な分解能と正確な露出精度と優れた信頼性コンポーネントを組み合わせた340HTは、スループットと歩留まりの最適化に最適です。