中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 340 #33407 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 340マスクアライナーは、汎用性と信頼性の高い半導体リソグラフィーツールです。このツールは、小型の水銀キセノンランプによって生成された光を使用して、パターンや構造を半導体ウェーハにエッチングし、集積回路、トランジスタなどの電子部品を製造することができます。マスクアライナーは、完全な8インチの視野で設計されており、マスクを半導体ウェーハの所望の領域に正確かつ正確にアライメントすることができます。この機能により、回路レイアウトパターンを高速かつ正確にエッチングできます。マスクアライナーのトッププレートは可動式で、マスクを半導体ウェーハの所望の領域に正確かつ正確にアライメントできます。マスクアライナーは、マスクのパターン化された表面をウェーハに露出させることができる露出ヘッドを備えています。これは、ウェーハを横切る線形パスに沿ってヘッドを動かすことによって行われます。プロセスは連続的で再現性があり、毎回高精度でクリーンな画像を保証します。露出ヘッドは、紫外線、可視光、近赤外光、ならびに窒素、アルゴン、酸素を使用して制御された表面調製を可能にします。マスクアライナーにはビームエキスパンダーも装備されており、エッチングされるパターンに最適な解像度を得るために、作業距離、ビーム径、ビーム位置を正確に調整できます。これはレンズ、ミラー、および他の部品の注意深く選ばれた組合せを使用するイオンエキスパンダーを正確に制御することによって行われます。さらに、Mask Alignerは最先端の露出制御も備えており、線量、露出時間、放熱、エッチング深さなどの露出パラメータを調整できます。さらに、マスクアライナーは、高度な機械設計により優れた精度を提供し、ウェーハ表面の露出線量の変動を最小限に抑えます。結論として、SVG 340 Mask Alignerは、半導体ウェーハを正確に操作するための優れた信頼性の高いツールであり、正確な集積回路設計を行うために必要なツールです。