中古 SVG / PERKIN ELMER / ASML 240 #33408 を販売中

SVG/PERKIN ELMER/ASML 240マスクアライナーは、高品質の半導体製品を製造するために設計された高速装置です。高度なパターニング、アライメント精度、アライメント安定性を提供し、大幅なコスト削減を実現します。このシステムは、あらゆるサイズの基板に極めて精度の高い電子ビーム感受性マスクを揃えるように設計されています。SVG 240は統合されたモジュラー設計に基づいており、メンテナンスコストの点で使いやすく費用対効果が高い。それは製造プロセスの速く、効率的で、正確なリソグラフィを可能にします。このモデルには、リソグラフィを組み合わせるための2つの別々の作業段階、位置精度の向上、および複数のポイントベースのアライメントなどの高度な機能が含まれています。ASML 240のモーションステージは、精密加工された部品と、ステージの正確で滑らかな動きを保証するクローズドループコントローラを備えています。ステッピングモータは、2µmの再現性と2〜20µmの範囲で、高精度のパターン転送を提供します。また、高速ロータリーテーブルと高精度ロータリーエンコーダによる角度アライメントにも対応し、精度を確保しています。マスクホルダーの設計は、0.5µmよりも安定した精度で再現性と信頼性の高いアライメントを提供します。マスクホルダーは、4"から6"、8"から12"、および24"までのサイズを含むマスクの完全な選択を受け入れます。また、マルチレベルパターニング、ポジショニング、アライメントを必要とする高度に設計されたマスクもサポートします。このツールには、パターンの洗練、ルールベースのフィーチャー認識、オーバーレイ計測、アライメントの最適化など、いくつかのプリセットパラメータを備えた高度な自動アライメント機能も含まれています。ソフトウェアスイートでは、画像強化、光学近接補正（OPC）、レチクル配置など、さまざまなリソグラフィーツールから選択できます。全体として、PERKIN ELMER 240 Mask Alignerは、半導体の製造に使用できる高効率で費用対効果の高い資産です。モジュラー設計と統合された機能により、高度なリソグラフィ用途に最適です。