中古 QUINTEL / NEUTRONIX Q7000 IR #9191163 を販売中

ID: 9191163
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 2001
Mask aligner, 4" Chucks Window for backside IR 2001 vintage.
QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 IRは半導体生産に使用するために設計された生産用マスクアライナーです。高精度・高精度なリソグラフィパターンが可能で、高精度な集積回路の製造が可能です。QUINTEL Q7000 IRは、真空密閉された大型露光チャンバーを中心とした大型フレームで構成されています。このチャンバーは、デジタル制御装置によって制御される様々な高精度レンズとミラーを備えています。このシステムは、最大の空間分解能を持つ結晶を生成するように設計されており、作業領域全体にわたって正確なリソグラフィパターンを可能にします。NEUTRONIX Q7000 IRは、精密なパターンジェネレータも備えています。このジェネレータは、石英基板にリソグラフィーマスクを正確に配置し、完璧なリソグラフィーパターンを保証します。3軸制御ユニットとビデオ端子によりアライメント処理を強化し、最適化を図ります。このデバイスは、微細な抵抗パターンを基板にエッチングするために使用される調整可能な赤外線(IR)レーザー源も備えています。機械はまたレーザーの強度、またレーザー力を、作り出される回路によって制御することができます。Q7000 IRには、高速ローダーとアンローダーも含まれており、各基板が迅速に処理され、効率的に保存されるようにします。このデバイスはまた、効率的な化学管理ツールを備えており、高速レーザー製造プロセスが材料の汚染や劣化を引き起こさないことを保証します。正確な測定と分析のために、QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 IRは光学試験アセットを備えています。このモデルは、微小なリソグラフィーパターンと回路の電気特性を正確に測定します。また、ウェーハ製造のリアルタイムモニタリングを提供し、ウェーハの生産設定を調整して、スクラップレートを低減した高品質の回路を製造することができます。結論として、QUINTEL Q7000 IRマスクアライナーは半導体製造に使用される先進的な生産装置です。水晶基板上に高精度のリソグラフィパターンを生成し、レーザー強度とパワーを制御する機能を提供します。また、高速ローダーとアンローダー、小型リソグラフィーパターンと回路の電気特性を測定するための光学試験装置も含まれています。
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