中古 QUINTEL / NEUTRONIX 401 #9065113 を販売中

QUINTEL/NEUTRONIX 401はプリント基板（PCB）製造時のフォトリソグラフィープロセス用に設計されたマスクアライナーです。フォトマスキングプロセス中にレジスト層を正確かつ正確に露出させます。機械の電子工学はすべての主要な部品および制御操作を統合する中央制御コンソールのまわりで造られます。このマシンは、3インチ、6インチ、および8インチのアライメントマスクを使用するように設計されており、さまざまな基板にさまざまな露出パラメータを提供します。3つの露光ステーションで構築されており、そのうちの2つは多軸アライメントとスキャンに使用できます。基板のサイズに応じて、2つまたは4つのアライメントレールを使用するように設定できます。このマシンにはユニークなプログラム可能なジョイスティックが装備されており、オペレータは外部露出フィールド下の基板を迅速かつ正確に整列させることができます。ジョイスティックは、光学顕微鏡装置を使用して、ライブプログラムに対するマスクに対する基板の位置を自動的に調整します。この機能は、マスクと基板の間の高品質の再現性のある結果と完璧な接触を保証します。QUINTEL 401には、基板の正確な位置を確保するための調整可能なフォーカスシステムも装備されています。高精度の垂直変位測定ユニットを使用して、基板のレジスト層とマスク層の間の垂直間隔を測定します。直径8インチの最大ウェーハサイズに対応するように設計されています。この機械は、過酷な産業環境での長時間の動作に耐えることができる高品位の耐腐食性材料で構成されています。それは作り付けの冷却装置を含み、2分未満の自動サイクル時間を備えています。機械はマスクと基質間の正確な接触そして登録を保障する上および底ダイスが付いている2つのマスター版から成っています。全体として、NEUTRONIX 401マスクアライナーは、高精度フォトリソグラフィープロセスを実現するための信頼性の高い効率的なツールです。PCB製造でレジスト層を正確に露出するための堅牢なツールを提供し、再現性のある高品質な結果を提供します。過酷な産業環境で長年の信頼性の高い運用を提供するように設計されており、模範的なカスタマーサービスとテクニカルサポートによってバックアップされています。