中古 PERKIN ELMER 300 #9174286 を販売中
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PERKIN ELMER 300は、フォトリソグラフィに使用されるマスクアライナーです。基板上にパターンを作成するために使用されるプロセスの一種です。フォトマスクの特徴をシリコンウェーハなどに正確に再現する高精度アライメントツールです。300は特に半導体および他の関連産業のフォトリソグラフィーのプロセスのために使用されます。PERKIN ELMER 300は、X軸、 Y軸、シータ(θ)軸を使用して動作します。1次元、2次元、3次元の3つのレベルすべてのアライメントを実行できます。X軸とY軸は横位置、シータ軸は回転配置を担当します。300の精密アライメントにより、フォトマスク上のパターンが半導体ウェーハ上で正確に再現されます。これは、機械のX軸、 Y軸、シータ軸を使用して、フォトマスクに対してシリコン基板を正確に整列させることによって実現されます。PERKIN ELMER 300は、アライメントプロセスに光学視認識と自動アライメント技術を採用しています。光学視認識装置は基板上のパターンを検出し、自動アライメントシステムは自動的にアライメント手順を実行します。さらに、300は、基板上のフォトマスクの露出線量の調整を可能にする調整可能な開口部を装備しています。これにより、リソグラフィープロセスの変動を低減し、パターン転送の精度を高めることができます。PERKIN ELMER 300は、紫外線と可視光を使用して使用される材料の基質および光感受性を検査するイメージングユニットも備えています。この検査は、イメージング前に基板の欠陥や不規則性を検出するのに役立ちます。基板の厚さや段高さを測定するだけでなく、断面画像を作成するためにも使用できます。300は、フォトリソグラフィープロセスのために多くの研究所で使用される強力で効率的なツールです。フォトマスクから基板へのパターン転送の高速かつ正確な方法を提供するため、半導体業界で最も広く使用されているマスクアライナーの1つです。PERKIN ELMER 300が提供する操作の容易さと高精度は、半導体業界で働く企業や研究所にとって理想的な選択肢です。
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