中古 ORIEL 82330 #188526 を販売中

ORIEL 82330は、フィールド半導体リソグラフィで使用される自動マスクアライナーです。最大露光波長は325nm、横分解能は50nm、焦点深度は3um、微動速度は2um/secです。精密な位置決めは、0。5um分解能のXYテーブルによって制御されます。フラットベースプラテンは、最大厚さ1mm、最大重量4kgの8。5×4。5インチのフラット基板を可能にするように設計されています。プラテンは耐久性があり、メンテナンスを軽減するために再設計されたサクションシステムを備えています。これにより、より高い精度のアライメントのためにサンプルを確実に保持することができます。82330には、オートフォーカスシステム、独自のウェーハアライメントソフトウェア、露出ログも提供しています。これにより、基板上のパターンの高精度なアライメントが可能になり、メモリカードに使用されるフォーカス条件と露出パラメータが記録されます。オートフォーカス・システムは、より高精度な結果を得るために、視野全体の焦点を最適化することもできます。ORIEL 82330には、フォトレジストのオンサイトコーティング用の電子ビーム対応コータモジュールが装備されています。このモジュールの特長は、真空コーティングベース、100°Cまでの編集可能な温度、およびミストフリーコーティングです。実験室熱処理装置のスイートは、ガス抜き、回転、ベーキングなどの用途に合わせて調整されています。0から2000rpmまでの速度を調整可能な10ステーションスピナー、400°Cまでの温度のホットプレート、2段の真空オーブン、およびその場のクールステーションが含まれています。82330には、半導体リソグラフィをより簡単にする多くの自動工具があります。真空チャンバーは、異なるサンプルに対応するために調節可能な高さを持っています、アライメントツールは、正確なアライメントと正確な裏面パターンを保証しながら、。コータモジュールはまた、フォトレジストの均一なカバレッジを保証し、処理ツールはサンプルの迅速かつ均一なベーキングを可能にします。このアライナーは、任意の半導体リソグラフィ用途の正確なニーズを満たすために、他のラボ機器と容易に統合するように設計されています。