中古 NIKON FX-801M2 #293621619 を販売中

NIKON FX-801M2マスクアライナーは、半導体デバイスのリソグラフィ最適化のために設計された完全に自動化された最適化された装置です。ロジックIC、 メモリIC、発光デバイス（LED）、薄膜トランジスタ（TFT）など様々な用途で、シリコンの小型化、高速デバイス製造、3D統合に広く使用されています。FX-801M2マスクアライナーは、ユーザーフレンドリーな環境でのデバイス製造の高精度と生産性を提供します。NIKON FX-801M2マスクアライナーは、ウェーハステージ、マスクステージ、露出チャンバーなど、複数のチャンバーと構造で構成されています。ウェーハとマスクステージには、片側ベルトシステムを搭載したCANSTAGE シリーズEQシリーズステージが採用されています。このユニットは、高い伝送力とウェーハとマスクの高精度な位置決めを提供することができます。露出チャンバーは、マスクアライナーFX-801M2特別なものであり、コンデンサーレンズやパスカル光源などの多くのコンポーネントで構成されています。これらのコンポーネントは、高効率のリソグラフィック最適化を可能にします。NIKON FX-801M2マスクアライナーのウェハステージは、450 x 350 mmの拡張ストロークを提供し、マーク検出機とレーザーゲージツールを備えています。このアセットにより、ウェーハの正確な位置決めが可能です。マスクステージは、幅広いアライメントタイプのために2つのマスクを自動的に切り替えることができます。また、マスク検出専用の機能を備えており、独自のMTFアルゴリズムを含むマスクの効率的なアライメントが可能です。FX-801M2マスクアライナーには、ユーザーが自分のニーズに合わせて調整できる多くの機能と設定が装備されています。露光設定、光強度、シャッタースピード、プリアライメント精度、画像シフト精度、強度オフセットなどがあります。また、NIKON FX-801M2マスクアライナーは、リソグラフィ画像を自動解析して動きや品質を確認する品質評価機能を備えています。全体として、FX-801M2マスクアライナーは、高速かつ正確なリソグラフィック最適化を行うように設計された高度なモデルです。卓越した位置決め精度を持ち、個々のニーズに合わせた様々な調整が可能です。さらに、操作のしやすさとユーザーフレンドリーな環境により、あらゆるデバイスの生産に最適です。