中古 M & R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V #9191076 を販売中

M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-Vは、高精度の半導体製品の大量生産に使用される高性能マスクアライナーです。このマスクアライナーは、業界をリードするプロセスの柔軟性と生産拡張性に特化して設計されています。アクティブレイヤーパターン、相互接続構造、デバイスレベルの金属化など、さまざまな半導体技術で使用できる幅広いアライメントおよび露出機能を提供します。NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-Vは、3段階の広視野レンズとウェーハアライメントシステムを備え、高精度とスループットを保証します。これらの調整システムにより、あらゆるサイズの製品の露出ジョブのアライメントを微調整できます。さらに、マスクアライナーは、ウェーハストレージと転送のための大きな分割構造を備えており、安全で効率的な生産プロセスを提供するのに役立ちます。NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-Vには、マスクの正確な方向合わせと露出を保証するスイベリングマスクユニットも付属しています。このユニットは、正確な位置決めのためにプログラムすることができ、さまざまなタイプのウェーハの露出設定を変更するために使用することができます。さらに、あらかじめプログラムされた解像度と精度プログラムを備えており、それぞれの露出が正しく行われるようにしています。NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-Vには、レジストの堆積のためのパッシベーション層への効率的な真空およびガス供給を提供する自動マスク準備システムも装備されています。また、フォトマスク洗浄やマスク搬送など、さまざまな作業を可能にし、精度を向上させます。NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-Vには、重要な層の特徴を露出させる高精度のエアギャップ制御システムも付属しています。これにより、より良いプロセス制御が可能になり、大規模なウェーハ製造の品質を確保するのに役立ちます。全体として、AG359-6N-D-S-S-Vはハイエンド半導体製品の製造に最適なソリューションです。設計機能と調整機能から自動マスク準備システム、エアギャップ制御システムまで、このマスクアライナーは高精度で再現性の高い露出結果を保証します。その結果、現代の半導体加工施設にとって貴重な資源となります。