中古 M & R NANO TECHNOLOGY AG2000‐ 8NDSAV #293598392 を販売中

M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAVマスクアライナーは、微細な電気回路や光学回路のパターンを半導体基板やウェーハに正確に伝達する高性能機器です。このマスクアライナーは、ユーザーフレンドリーで費用対効果が高いように設計されています。高度なアルゴリズムとソフトウェアを使用して、回路パターンを迅速かつ正確に整列させると同時に、整列プロセスと結果を監視することができます。AG2000-8NDSAVは最適な精度を提供し、また0。1ミクロンのアライメントの再現性と12mm×12mmまでのパターンサイズを可能にします。これにより、半導体集積回路および部品の製造のための基板の製造に最適です。このマシンは、パターンを整列するためのXY微調整軸を採用しています。AG2000-8NDSAVには、高度な「Ganfure」投影レンズと高精細カメラシステムが搭載されています。このユニットには、リソグラフィ光学などのコンポーネントも組み込まれており、ユーザーはパターンを基板に正確に整列させることができます。パターンを揃えると、機械はエネルギービームを使用してパターンを基板に転送してパターンを作成します。エネルギービーム露光面積と強度を制御することで、パターンが正確に転送されることを保証します。このマスクアライナーはまた、洗練された基板加熱アセットを備えており、リソグラフィープロセス全体でウェーハ温度が一貫していることを保証します。AG2000-8NDSAVのもう一つの大きな特徴は、その「自動サンプリングスキャン」です。この機能により、パターンの露出が一貫しており、基板全体をスキャンする際に均一であることが保証されます。このモデルはまた、ユーザーが露出データを保存し、結果を分析することができる使いやすいデータ記録プロセスを持っています。さらに、AG2000-8NDSAVには強力な真空マニホールド設計があり、より良い廃ガス処理とエネルギー効率を可能にします。さらに、このマシンには高度なプログラミング言語が含まれており、ユーザーはさまざまなアライメント設定を簡単にプログラムおよびカスタマイズできます。結論として、M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAVマスクアライナーは、複雑な基板や集積回路を製造するための優れた選択肢である強力で費用対効果の高い、ユーザーフレンドリーな機器です。精密パターンアライメントとステージシャッター制御、オートサンプリングスキャン機能を提供します。さらに、強力な真空マニホールド設計とデータ記録プロセスにより、このマスクアライナーは集積回路のメーカーにとって優れた選択肢となります。