中古 KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9192045 を販売中

KASPER/EATON/QUINTEL 2001は、集積回路やその他のナノテクノロジー機器の製造に使用される半導体製造装置の洗練された部分であるマスクアライナーの一種です。この特定のアライナーは、ウェーハステージ、レチクル、マスク、光源の4つの主要コンポーネントで構成されています。ウェーハステージは、ウェーハなどを配置するテーブルです。レチクルは電子制御されたプレートで、露出時にマスクとウェーハを収納して正確に移動させます。マスクは、事前に決定された場所に透明で不透明な窓を持つ金属板であり、ウェーハに書かれる地形パターンまたは画像として機能します。元の画像はマスクメモリに保存され、必要に応じてマスクに転送されます。最後に、光源がマスクを照らし、露出中にそのパターンがチップに投影されるようにします。EATONマスクアライナーは、マスクとウェーハの高精度なアライメントを可能な限り最高の解像度で提供するように設計されています。ウェーハ表面全体を1µm未満の最小フィーチャーサイズでスキャンすることができ、精度は0.5µmレベルです。さらに、フルチップ（300mm2）の5µmエッジ間アライメントと35nm x-yアライメント精度を提供します。KASPERマスクアライナーには、精密なエンドポイント制御など、その精度とパフォーマンスを高める他の機能があります。この機能は、スキャンプロセス全体を監視し、さらなる調査のためにプロセスの任意の時点でスキャンを停止することができます。アライナーには、バックグラウンドで常に実行される統合システム診断も含まれており、発生する可能性のある欠陥や問題を迅速に特定できます。最後に、その一連のソフトウェアツールは、1µm精度内の3Dオーバーレイ測定を含むアライメントプロセスの精度を容易にするのに役立ちます。全体として、QUINTELマスクアライナーは、チップに画像やパターンを正確に書き込むように設計されており、高度で信頼性の高い半導体やその他のナノテクノロジー機器を作成するために不可欠です。高精度なアライメント、高解像度機能、高度な診断およびソフトウェアツールを提供します。このように、それは現代の半導体製造風景の不可欠な部分です。