中古 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen 2 #9352165 を販売中

ID: 9352165
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2007
Mask aligner, 8" Top and backside alignment Splitfield microscope UV 400 Exposure optics Wavelength range: 365-405 nm Lamp house: 1000 W CIC1200 Lamp power supply BSA Chuck Mask holder Operations manual Documentation Operation modes: Hard contact Soft contact Vacuum contact Proximity Ellipsoidal mirror has been replaced UV Bulb has been replaced Cold light mirror Front turning mirror Front lens Shutter cylinders has been replaced Mirror house cylinder has been replaced Microscope illumination bulbs has been replaced Microscope assembly Optical microscope alignment WEC Head Pneumatic regulators Cover Isolation table: Air bag Air line Wheels Leveling feet Power supply: 200-240 V, 50/60 Hz 2007 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2は、フォトリソグラフィ工程で使用される半自動マスクアライナーです。フォトマスクやウェーハ基板の加工に使用されるマスクアライナーで、高精度・高精度なデバイスを実現します。Gen 2は、半導体デバイスのエッチングおよび製造において、高速、精度、および信頼性を向上させる多数の機能を備えています。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2は、最新の光学技術と自動化された精密アライメントを使用して、正確な小規模パターニングを実現します。マスクアライナーは、調整可能なマスク配置フィールド、マスク搬送とアライメント用のステッピングモータードライブシステム、高精度マスク位置決めシステムなど、ユーザーのニーズに合わせてカスタマイズされています。さらに、その高度な温度制御技術は、一貫した堆積とパターニング結果を保証します。精度を確保するために、カールサスMA 8/BA 8 GEN2は、最大+/-20 nmの精度でサブミクロン分解能が可能です。ユーザーは、直径8インチまでの面積を持つ基板を含む幅広い基板に対応するようにアライナーを設定できます。さらに、このマシンは柔軟なアーキテクチャを備えているため、ユーザーはさまざまなアプリケーションやプロセス要件に対応するためにセットアップをカスタマイズできます。KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN2は、集積回路、トランジスタ、メモリチップなどの半導体デバイスの製造に適しています。さらに、ソフトウェアパッケージを使用すると、ユーザーは包括的なデータロギングと分析を実行でき、ユーザーは自分のマシンのパフォーマンスを簡単かつ自信を持って監視することができます。KARL SUSS MA 8/BA 8 Gen 2は、小型フォトリソグラフィのスループットと精度を向上させるために設計された信頼性の高い効率的なマスクアライナーです。高度な光学系と正確なアライメント機能により、Gen 2は高品質の結果を保証します。カスタマイズ可能なオプションにより、あらゆる半導体製造アプリケーションに最適な産業用ツールです。
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