中古 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #119483 を販売中

KARL SUSS/MICROTEC MA 56はフォトリソグラフィープロセス用に設計された自動マスクアライナーです。超精密なレーザーベースの投影アライメント装置を使用して、リソグラフィープロセス中にウェーハ上の基板とマスクを整列させる精度を高めます。MICROTEC MA56は、ロジックアプリケーションやメモリアプリケーションを含む高密度半導体デバイスの製造用に設計されており、デバイスのアラインメントにサブミクロンレベルの精度を提供することができます。KARL SUSS MA-56には、さまざまなフォトマスクアライメントアプリケーションに最適な複数の機能が搭載されています。また、ユーザーはプロセスをカスタマイズできます。8インチの大型マスクフィールドを備えており、小型マスクや大型マスクなど、幅広いサイズや形状に対応するのに十分なスペースを提供します。さらに、KARL SUSS MA56には2つの独立した投影アライナーがあり、どちらもサブミクロンの精度でスポットオンアライメントを提供することができます。KARL SUSS/MICROTEC MA-56はモジュラー設計を採用しており、お客様の生産ニーズに合わせてシステムをカスタマイズすることができます。様々なレンズオプションが付属しており、解像度や焦点の深さなど、特定のアプリケーションに独自の利点を提供します。このユニットには、多層アライメント用の光学ビームコンバイナ、パターン結合用スキャナ、さまざまな波長レーザーを使用したアライメント用の投影目的など、さまざまなオプション部品もあります。MICROTEC MA-56は最大6枚のマスクを収納できるため、異なるフォトマスクセットを素早く切り替えることができます。KARL SUSS/MICROTEC MA56は、精密なサブセットをホルダー上に正確に配置できるウェハハンドリングマシンを採用しています。このツールには、サーフェスの反射率とスキャナーエラーをすばやく補正する自動反射アライメント機能も装備されています。さらに、カールサスMA 56は、自動化されたギャップセンサーや真空穴の調整などの高度なオプションにより、性能と精度を向上させることができます。MICROTEC MA 56は、優れたマスクアライメント機能に加え、幅広い基板に精密な条件を提供します。精密な温度・湿度モニタリング資産を活用し、最適な条件でデバイスを製造します。MA 56には、化学的に敏感な環境で機器が動作しているときに機器の動作に関連する事故を防ぐ高度な安全モデルが装備されています。全体として、MA-56は高密度半導体デバイスの精密マスク整列のための優れた選択肢です。それはサブミクロンの正確さおよび制御を提供できる高度の投射の整列システムが装備されています。さらに、MA56は、さまざまなニーズに合わせてカスタマイズできる幅広い機能とコンポーネントを提供し、さまざまな基板に正確な条件を提供します。