中古 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9394467 を販売中

KARL SUSS/MICROTEC MA 200は、半導体ウェーハや薄膜デバイスなどの基板表面にフォトリソグラフィックパターンを作成するために使用されるマスクアライナーです。マスクオンウェーハアプローチを採用し、マスクとウェーハを高精度に整列させます。MICROTEC MA200は、基板上の正確で反復可能なパターンを保証するフルフィールドアライメントを提供します。KARL SUSS MA-200は、XYシータステージと6軸キネマティックマスクホルダーを備えており、ウェーハとのマスクの正確かつ再現可能な位置決めとアライメントを保証するように設計されています。高速サーボと高精度のリニアベアリングを備えたマシンの駆動装置は、迅速かつ繰り返し可能なステップアライメントと露出を提供します。MA-200は、LEDを利用してさまざまな波長の露光光を作成し、正確な露光制御を行う高度な照明システムも備えています。KARL SUSS/MICROTEC MA200の光学パッケージは、パターンの効率的なスケーリングを可能にする交換可能な目的を備えています。露光ユニットは、マスクとウェーハの間にある生徒用リレー光学系を使用して正確なイメージングを実現し、視野光パッケージはステッパー倍率とリアルタイム検査を提供します。機械は柔軟性のために設計され、レイアウトのタイプの広い範囲のマスクそして基質を受け入れることができます。KARL SUSS MA200には、ジョブプログラミング機能を備えた柔軟でユーザーフレンドリーな操作を提供し、複数の基板をサポートするように設計された最先端の制御ソフトウェアがあります。ソフトウェアはまた、プロセスの最適化とパラメータ開発を可能にします。マシンの温度制御マシンは、露出の前後にウェーハを加熱または冷却する機能を備えた一定の周囲温度を維持します。さらに、MA 200は直径8インチまでの基板に対応でき、最大5。5インチの露出面積が可能です。このマシンには、露出前にフォトレジストを清掃して保存するための自動ウェット処理アセットを備えた高度なウェハハンドリングツールもあります。KARL SUSS MA 200は、モジュラー設計と包括的なセルフモニタリング機能により、メンテナンスを容易にするために構築されています。