中古 JEC / JAPAN ENGINEERING COMPANY MA-2400 #9005623 を販売中

JEC/JAPAN ENGINEERING company MA-2400マスクアライナーはフォトリソグラフィに不可欠なツールで、半導体ウェーハ上の機能を正確かつ再現可能に制御します。この高度に自動化されたデバイスは、ウェーハ表面にフォトマスクを正確に登録し、超高精度で正確な回路パターンを生成することができます。JEC MA-2400 Mask Alignerは、高精度の2段パターニング装置を備えており、ファインパターニング用途に優れた性能を提供します。内蔵のAutocollimatorおよびImage Processorテクノロジーは、1 um以内の再現性で、マスクとウェーハの正確なアライメントを提供します。ソフトウェアはユーザーフレンドリーで、繰り返し可能なプロセスのための自動化されたパラメータ設定とメンテナンス制御を提供します。最大8 インチ/200mmのウェーハに対応し、25ミクロンから150ミクロンの厚さの基板加工が可能です。コンパクトデュアルビームユニットはセットアップが簡単で、単一のビームマシンで実行できるプロセスのサイクルタイムを短縮できます。JAPAN ENGINEERING COMPANY MA-2400 Mask Alignerは、コンタクト印刷、スキャン、1：1レプリケーションなど、さまざまなアプリケーションに使用できる汎用性の高いツールです。アセットの機械部品と光学部品は空力性能が高く、優れた性能を発揮するために最適化されています。MA-2400マスクアライナーは、8 インチ/200mmまでの基板でも高精度を保証する高速加熱真空チャックで設計されています。チャック圧力は基板の厚さに応じて調整可能で、チャック温度を調整して基板制御を向上させることができます。JEC/JAPAN ENGINEERING社MA-2400マスクアライナーは、クラス10からISO 7までのさまざまなクリーンルーム環境で使用でき、敏感なプロセスに最適です。また、ポリカーボネートのような耐酸性材料との併用も可能です。JEC MA-2400 Mask Alignerは、ファインサーキットパターンを正確に再現可能に制御するための幅広い機能と利点を提供する、フォトリソグラフィにとって貴重なツールです。高度に自動化された装置は設置、使用、保守が容易で、フォトリソグラフィープロセスに効果的なソリューションを提供します。