中古 JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200 #9107350 を販売中

JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200
ID: 9107350
ヴィンテージ: 2009
Mask aligner, 2009 vintage.
JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200は、フォトリソグラフィに使用される全自動マスクアライナーで、半導体やオプトエレクトロニクス機器の高精度パターンを生成することができます。このマスクアライナーは、高精度なアライメントを提供し、製造プロセスを迅速かつ効率的に完了することができる高いウェーハスループットを備えています。MA-4200は、必要な回路パターンと必要なマスクを正確に整列して一致させる高速自動パターン認識装置を備えています。セクタースプリッターミラーを使用して、パターンとマスクの正しいアライメントを実現し、反復可能な結果を生成します。パターン認識システムはまた、ウェーハの反りやその他の環境影響を補償します。また、JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200には、高解像度マスク投影ユニットを搭載しています。このレンズとミラーを4次元で正確かつ正確にウェーハに投影することで、高度な半導体回路パターンを形成することができます。このツールはまた、高速露出を提供し、毎分最大10ウェーハの高速スループットを備えています。MA-4200には、高度なプロセス制御アセットなどの機能も含まれており、ユーザーはマスクとウェーハのアライメントを正確に監視および制御し、プロセスを即座に変更することができます。このモデルにより、最適なアライメント歩留まりとプロセスの一貫性が向上します。このマスクアライナーには、露光プロセス全体で自動的にフォーカスを維持するために使用されるコンピューター制御のフォーカスアジャスターも含まれています。これにより、パターンがウェーハに正確に投影されます。JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200は、学習しやすいインターフェーススレッドを使用してプログラムされており、ユーザーは最小限の労力でデバイスの使用を開始することができます。全体として、MA-4200は高精度なアライメントと高スループットを提供する効率的で信頼性の高いマスクアライナーです。基本的なスクライブレイアウトから最先端の3Dフォトリソグラフィまでのアプリケーションに最適で、さまざまなフォトリソグラフィのニーズに対応する包括的なソリューションを提供します。
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