中古 HTG 84-3 #9198923 を販売中
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ID: 9198923
ヴィンテージ: 1986
UV Mask aligner
With microscope
UV Lamp power supply
High resolution
Sub-micron printing
Contact and proximity exposures
Scale production alignment capability
Silicon, GaAs, LiNb, InP
Consistent printing:
Wafers
Rectangular substrates
Odd sized / Brittle materials
Single or split field viewing
Up to 600x magnification on the optics
Alignment accuracy: ±1 µm
Precise wafer to mask leveling
Highly collimated UV/deep UV exposure systems
Two channel intensity controlling power supply systems
Stationary alignment tooling
Vibration isolation console
Differential micrometers
Self planarizing chucks
Wafer chuck and mask holder included
Wafer chuck motions:
X, Y, Z and ø (direct drive)
Z-Axis adjustment: ±750µ
Air-bearing planarization system
Wafer / Substrate size: Up to 6.0" wafers / Square substrates
Mask rotation: 180°
Mask size: 7.0" x 7.0"
Vacuum mask clamp
Pneumatic mask assembly lift
Front side alignment accuracy: <0.5µ
Printing resolution:
Near UV: <0.8µ
Mid UV: <0.4µ
Deep UV: <0.3µ
Control functions:
Power
Test
Substrate vacuum
Mask vacuum
Contact vacuum
Expose
Cycle
Skip
Mask lift
N2 Purge
Timer:
000.1 to 999.9 sec
0.1 increments
Gauges:
System vacuum
Contact vacuum
N2
1986 vintage.
HTG 84-3は、半導体デバイスの製造工程で使用されるマスクアライナーです。半導体マスクを最高の精度と精度で整列・パターン化できる先進的なツールです。84-3の主な部品には、マスクアライナー本体、真空チャンバー、真空装置があります。マスクアライナー本体は、X-Yステージ、レーザーアライメントシステム、真空ユニットで構成されています。マスクアライナー本体は、真空チャンバー内の適切な位置にマスク、レーザー投影機、真空アライメントステージを移動する責任があります。レーザー投影ツールは、レーザー源、コリメータ、およびマスクとウェーハにレーザー光を投影してそれらを整列させる一連のレンズで構成されています。レーザー光源は通常、ヘリウムネオン(He-Ne)レーザーです。コリメータは、レーザービームをマスクまたはウェーハの小径に集中させるために使用されます。レーザー投影アセットには、マスクとウェーハの位置や形状の不規則性を検出するために使用される検査モデルも含まれています。検査装置は、マスクとウェーハの画像をキャプチャすることができるカメラのシリーズで構成され、エラーのために事前にプログラムされたデータと画像を比較します。真空チャンバーは、正確なアライメントのためにマスクとウェーハをシールするために使用されます。チャンバーには真空システムが内蔵されており、アライメントプロセスの精度を妨げる圧力の蓄積を防ぎます。真空ユニットはまた、ほこりの粒子や他の破片による汚染からマスクとウェーハを保護します。HTG 84-3は高精度で精度が高く、0。0025mm以内の精度でマスクやウェーハを整列させることができます。機械はまた速く、0。2秒以内にマスクおよびウエハを整列させることができ、接触および非接触マスクのようなさまざまな適用に、使用することができます。全体的に84-3は、優れた性能と精度を提供するように設計された汎用性と信頼性の高いマスクアライナーです。その精度と精度は、半導体デバイス製造にとって貴重なツールとなります。
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