中古 EVG / EV GROUP IQ #9138247 を販売中

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製造業者
EVG / EV GROUP
モデル
IQ
ID: 9138247
Nano imprint lithography system, 8" Top-side alignment only Manual load Wiring removal Basic unit 200mm: Flat screen:17" Self Diagnostics during machine startup Automatic initialization:All motors,encoders,limit switches,sensors and pneumatic Remote diagnostics Quick change:Stamp holders and imprint chucks EC declaration of conformity PC controlled operating environment Solid state drive and hard drive Earthquake protection device Software: MS-windows Process software ,processing and diagnostics Automated recording Storage of files in hard disk or network Password protected Internal wedge compensation unit: Automatic wedge compensation Motorized alignment stage: X,Y,T alignment High resolution alignment (3) axis joystick Reinforced stage drives Top side microscope: Fully motorized split field microscope Travel range X: 90-200mm* Travel range Y: -10-100mm* (3) axis joystick control Display and storage of microscope position (2) Objective 5x Automatic alignment for top and / or bottom side: Vision system Storage of stamp and patterns on hard disk Top and bottom side alignment Stamp and wafer alignment marks Large gap alignment capability: Alignment at substrate separations >50um Alignment during UV molding Alignment during UV bonding Manual wafer loading capability: Motorized swivel arm software integrated (2kg) Manual substrate loading/unloading Wafer loading trays Wafer loading frame for 200mm wafers/stamps: Manual wafer loading on chuck process integrated substrate vacuum fixing Notch or flat with pins External wafer thickness measurement station: (3) Point wafer thickness detection Contact less imprinting (3) Sensors adjustable range :150-200mm Designed Warped substrate :1mm Manual Operation Sensors range: up to 10mm manual system only 500W-1000W Light source NUV: Lamp house :500w or 1000w NUV range:280-450nm Optimized parallel Light:+/-3% on 150mm and +/-4% on 200mm Adjustable plate: diameter 44.5mm and max.height 16mm Optical set for wave length range 350-450nm: NUV and DUV light sources Field lens:200mm Dielectric mirror Fly's eye lens Stamp holder for 200mm UV hybrid lens molding: UV molding automated de-embossing function Hard coat surface finish Quartz backplane Imprint chuck for 200mm wafers/stamps: Bottom chuck: 200mm wafer Top side alignment Hard coat surface finish Manual and automated loading Software for UV hybrid lens molding: UV molding process flow Designed for puddle dispense Recipe parameters and user guidance Software to compensate with specified tolerance Force control capability up to 400N: Load cells implemented Maximum controllable imprint: 400N Force control during imprint Force control during UV exposure UV molding software Tooling for 200mm UV bonding,stamp fabrication and MLM: Top substrate holder Special quartz backplane with edge vacuum groove Mechanical clamping Vacuum supply to backplane via tube Software for master and sub-master replication: UV molding process flow Tooling for polymer stamp fabrication Software to compensate product within specified tolerance Software for UV monolithic lens molding: UV molding process flow UV molding tools for puddle dispense Recipe parameters and user guidance Software to compensate with specified tolerance Diffuser plate for tooling for stamp fabrication + MLM: Tooling for stamp fabrication + MLM Diffuser plate onto backplane prior to UV exposure step Diffuser plate for hybrid lens molding tooling: Hybrid lens molding tooling Diffuser plate onto backplane prior to UV exposure step Recipe controlled microscope illumination spectrum: Contrast improving illumination system Increased pattern visibility Improved alignment reliability (3) Adjustable LED light sources per microscope Autom.Arm for puddle dispense and de-ionization: Motorized swivel arm Software integrated Programmable dispense arm/nozzle Puddle dispense of imprint material: up to 4 lines Right-hand side alignment Host ionization system Ionization system: Ionization nozzle with power supply De-ionizing of stamp and substrate Syringe dispense system: Syringes :up to 3 (2) Dispense lines Universal resists applications Resist with short shelf life time Programmable dispense rate Adjustable suck back Different resist and polymer viscosity Chemistry cabinet: Housing with front door access Encapsulating of syringe dispense systems / arm Exhaust port Prepared for later pump upgrade Pre-installed weight cell 2011 vintage.
EVG/EV GROUP IQマスクアライナーは、半導体業界でチップ、トランジスタ、その他の回路素子などの小型デバイスをパターン化するために使用される高精度、高スループットウェハレベルのリソグラフィ装置です。この高度なツールは、デバイスのパフォーマンスと歩留まりを向上させるために、高線エッジ粗度(LER)およびオーバーレイ精度で超高解像度を提供します。高度なウェーハステージ、レーザー干渉計を使用して、正確なウェーハアライメントとモーションコントロールを行い、同期されたステップアンドリピート方式を使用して、望ましいイメージを迅速かつ反復可能な方法でウェーハに投影します。EVG IQ Mask Alignerは、ビーム分割レンズを使用して、レーザー光をマスクとフォトレジストコーティングされたウェーハに反射する長方形ミラーに導き、同時にそれらを露出させ、高度な多層パターンを作成することができます。ビーム分割レンズはまた、マスクとウェーハに照明の源を提供します。EV GROUP IQ Mask Alignerは、標準アライナーで50nm以下の機能を印刷することができます。また、特殊な機器で30nm以下の機能を備えているため、高度なICやMEMデバイスの製造に最適です。このような小さな機能を実現するために、レンズとクランカー機構を駆動する強力で高精度なデジタルステッピングモーターを使用して、ウェハを正確に移動させ、それを高くし、パッタします。これにより、高精度で再現性の高い印刷プロセスが可能になります。ウェーハは真空チャックによって所定の位置に保持され、アライメントレーザーを使用してウェーハの位置を調整し、マスクと正確に整列させる。これにより、印刷から印刷までの真のオーバーレイ測定が可能になります。さらに、紫外線レーザーを使用して幅広いマスクやウェーハ機能をスキャンし、プリント間の時間を短縮してウェーハを迅速かつ効率的に処理できます。IQ Mask Alignerは、± 5nmの順序での線幅制御、1nm未満のLERなど、驚くべきパターン精度を提供します。機械はまた20年以上の耐用年数と、非常に信頼できます。迅速なスループット機能と高度なリソグラフィ制御により、このツールは正確で複雑なパターンを迅速に製品化できます。そのため、高精度、高スループットのウェーハレベルのリソグラフィーソリューションを求めている半導体分野の人々にとって、非常に貴重なツールです。
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