中古 EVG / EV GROUP 620NT #9286955 を販売中

EVG/EV GROUP 620NT EVGのマスクアライナーは、次世代の高精度フォトリソグラフィ装置です。MEMS/センサからマイクロ流体、オプトエレクトロニクスまで、幅広い用途にわたる高解像度パターニングのための汎用性の高いツールです。EVG 620NTは、高度で超微細な製造技術に適しており、優れたアライメント精度と精度のポスト露出登録を提供します。EV GROUPの620NTはまた挑戦的な構造および基質に即座に合わせるのに十分に適用範囲が広いです。620NTは、フィールドに最適化された5。2ミクロンのスポットサイズと最大30 mJ/cm2のUV露光源を提供し、正確なアライメントとパターニングを提供します。システムの露出ヘッドはソースに応じて切り替えることができ、露出プロトコルを微調整するための64ビット露出チャスピードコントロールもあります。基板ステージには非接触サーボコントロールユニットがあり、位置測定用の高解像度エンコーダでサブミクロンの位置精度を達成できます。また、環境制御とアクティブワークスペースイメージングマシンを備えており、安全性を高めています。EVG/EV GROUP 620NTのアライメントは、高度なウェハツーマスクズーム技術により、高精度で再現性があります。このツールは高度なアライメントマーク識別機能を備えており、さまざまな基板材料でパターンを正確に登録できます。また、アライメント検証とプロセス検証のための分析ツールの完全なライブラリと、独自のプリセット最適化エンジンも備えています。最後に、この資産には包括的なデータ分析と測定パッケージが含まれており、詳細なプロセス監視と評価が可能です。EVG 620NT Mask Alignerは、最新の高度なフォトリソグラフィ技術を活用して、さまざまな複雑な製造アプリケーションに高解像度、高精度、および信頼性を提供します。異なる基板間で均一なパターンを作成する必要がある場合は、EV GROUP 620NTがあなたのためのツールです。それはユーザーフレンドリーで、直感的なタッチスクリーンコントロールとユーザーが選択可能なパラメータを備えており、究極の柔軟性を提供します。信頼できる反復可能な正確なパターンを毎回提供するために620NTを信頼できます。