中古 EVG / EV GROUP 620 #9283060 を販売中

EVG/EV GROUP 620は、ナノメートルレベルの精度の構造を生成するように設計されたマスクアライナーです。異種、単層または多層の材料構造とパターンを生成するように設計された汎用性の高いツールです。この機械は、リソグラフィ技術を使用しているだけでなく、ナノメートル精度のウェーハ微細構造のアライメントと測定においても新たな進歩を遂げています。EVG 620は、一貫して高性能の溶接、パターニング、エッチングを保証するように設計された機能で非常に正確です。このデバイスには、構造とパターンの配置における高分解能アライメントとナノメートルレベルの精度が含まれています。ステッパーには、アライメント、Z位置、構造位置の測定に使用されるCCDカメラが含まれています。これにより、最終製品で生成される必要なパターンの正確かつ信頼性の高いアライメントが可能になります。EV GROUP 620は、蒸発蒸発によるナノメートルスケール構造物の極めて高解像度の画像作成に最適です。このデバイスは蒸発技術を利用して、ナノメートルおよびサブミクロンの特徴サイズに必要な分子レベルの材料を正確に蒸発させます。ステッパーはまた、専用のクローズドループAuto Alignテクノロジーを使用しています。これは、ステッパーがマスクと基板ウェーハの間の整列を確実にするために常に修正を行っていることを意味します。これにより、最終製品の精度が向上します。さらに、620には、プロセス中にマスクとウェーハの間のアライメントが邪魔にならないようにするプリアラインフィーチャーとポストアラインフィーチャーが含まれています。プレアラインステージは露出前にマスクを配置し、ポストアラインステージはウェーハとのアライメントを改善するのに役立ちます。EVG/EV GROUP 620には、パターンが正しく露出されていることを確認するために、高度な正面とエッジのエクスポージャーが装備されています。ステッパーには、オートフォーカスや偏光などの機能もあり、パターンの精度を向上させるのに役立ちます。EVG 620は、高精度のナノメータパターンを生成するのに役立つ幅広いプラズマエッチングオプションを提供しています。ヘリウムプラズマプロセス、アルゴンプラズマプロセス、酸素オゾンプラズマプロセスなどのオプションがあります。プラズマエッチングパターンは信頼性が高く、複雑な材料マイクロストラクチャーを作成するために使用できます。このデバイスはユーザーフレンドリーで、デバイスを制御するためのユーザーフレンドリーなATCソフトウェアが付属しています。このソフトウェアは、デバイスの簡単な制御、監視、操作を可能にします。また、自動パラメータ調整、カーブフィッティング、統計解析、内蔵データベースなどのツールも含まれています。EV GROUP 620は、アスペクト比が非常に高いパターンを生成する機能も備えています。また、金属、ガラス、ポリマー樹脂、セラミック層など、あらゆる種類のアーカイブ材料に使用するように設計されています。620は、正確で信頼性の高いナノメートルレベルの構造とパターンを作成するための不可欠なツールです。それは最終製品が最高水準であることを保証する多目的な装置です。