中古 EVG / EV GROUP 620 #9261506 を販売中

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ID: 9261506
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2001
Mask aligner, 6" Mask size: 3"-5" Substrate size: 2"-4" Lamp power: 13 mW/cm² Cassette loader Exposure mode: Time / Constant energy Plating type: Proximity Soft contact Hard contact Vacuum contact (Vacuum chamber) Alignment accuracy: Top: 5µm Bottom: 1µm Theoretical resolution: Soft contact: <2µm Hard contact: 0.8µm to 1.5µm Vacuum contact: 0.6µm 2001 vintage.
EVG/EV GROUP 620は、ナノリソグラフィ、特にフォトリソグラフィに使用されるマスクアライナーです。線やビアなどのパターンを基板に正確に移し、整列させることができる半導体パターニング装置です。EVG 620の主なコンポーネントは、光学カラム、レーザー制御システム、ウェーハステージです。アライナーEV GROUP 620の光学カラムは、基板にパターンを転送するために使用されるさまざまなマスクやレチクルを介して光を投射することができます。このコラムには、光のパターンを基板上に移動させるガルボミラーなどの光の配達とリレー光学も含まれています。さらに、パターンを正確に整列させるためにレーザービームを指示する精密ステージが含まれています。Aligner 620のレーザー制御システムは、望ましいパターンに合わせてレーザーのパワー、波長、露出時間を調整するために使用されます。このシステムには、多言語ビューポートなどの光学系も含まれているため、パターンの整列時に正確さを確保できます。最後に、アライナーEVG/EV GROUP 620のウェハステージが基板の移動を担当します。ステージは、パターンを正確かつ正確に揃えることができるように、高精度で基板を迅速に位置決めすることができます。EVG 620は、移動範囲が広く、再現性が1 µmで、優れた位置決め精度を実現しています。全体として、EV GROUP 620マスクアライナーは、リソグラフィ用の信頼性の高い正確なパターニング装置です。レーザー制御システム、光学カラム、ウェーハステージにより、基板上にパターンを迅速かつ効果的に正確に転送および整列することができます。
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