中古 EVG / EV GROUP 620 #9232815 を販売中

EVG/EV GROUP 620は、さまざまなアプリケーションに適した半自動マスクアライナーです。プロセス再現精度は2。0ミクロン、基板ステージ精度は3。0ミクロンです。このマシンはモジュラー設計を採用しており、埋め込み構成と非埋め込み構成の両方で操作することができます。埋め込みモードは一般的な半導体ウェーハ処理に適していますが、非埋め込みモードは高度なマスキング用途に適しています。特許取得済みのダイレクトイメージングパターニング技術「Singleexposure」を搭載し、優れたイメージング精度と高い生産スループットを実現しています。これにより、スパッタリングやイオン注入からフォトレジストリフロー、マルチレベルメタライゼーションまで、幅広いプロセスを実行できます。EVG 620には、包括的な安全機能が組み込まれています。マスクとウェーハのアライメント精度の不整合を検出する内蔵センサー、アライメントが2ミクロン以上オフのときに自動ビームシャットオフ、手動マスク除去が自動フォーカス検出でオペレータのエラーの可能性を低減、解像度を最小限に抑える光ファイバービームドレッシング技術などがあります。EV GROUP 620には、ユーザーが簡単にマシンのさまざまな側面を設定できるソフトウェアユーザーインターフェイスがあります。これには、特定のマスクおよび基板タイプのプロセスレシピの設定、マルチレベルパターニング用のトレーシングテンプレートの作成、正確なピクセル精度でウェーハにマスクを揃え、バッチプロセス番号付けのための積み重ね可能なトレースリストの作成、および各アプリケーションの露出パラメータの調整が含まれます。また、プロファイルもあらかじめ設定されているため、バッチプロセスを迅速かつ効率的にセットアップできます。このマシンは、10〜38°Cの厳しい温度範囲と60％の相対湿度レベルのクリーンルーム互換環境を提供し、プロセスの不必要な中断を保証します。620はまた、高度な精密アライメントシステム（APS）を備えており、高精度で再現性の高いアライメントプロセスを保証します。これにより、目的のパターンがユーザーの仕様に従って正確に登録されます。全体として、EVG/EV GROUP 620は信頼性と柔軟性の高いマスクアライナーであり、一貫した再現性で高品質な結果を提供します。モジュラー設計と幅広い統合安全機能により、高精度マスキングを必要とするあらゆる生産環境において、強力で望ましい選択肢となります。