中古 EVG / EV GROUP 620 #9157253 を販売中

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ID: 9157253
ヴィンテージ: 2003
Bond aligner, 6" Wafer thickness 0.1-4.4 mm with total stack of thickness of 4.5 mm Semi automatic loading with mechanical prealignment Quick change of chuck with automatic pressure and vacuum transfer Alignment accuracy: +/- 1 um with high process objectives Alignment stage: Fully motorized X, Y, Theta and Z alignment stage alignment via 3 axis joystick Automatic wedge compensation with air bearing precision stage WEC contact force from 1-30 N adjustable, no shift between wafers DC Motor controllers for cursor key fine alignment Bottom side microscope, MS241: Motorized split-field microscopes for alignment in visible light with CCD cameras Bottom side alignment via digitized alignment keys (mask) or crosshair Travel range: X: 30-100 mm, Y: +/- 12 mm CCD Camera (604 x 575 pixels) (2) 20x Objectives (2) 10x Objectives for flat and chip alignment: Minimum distance (optical axis) of 8 mm Suitable for top or bottom side microscope Bond tool 20 mm x 20 mm universal (set): For thermo compression bonding process Bond chuck with mechanical clamping Loading chuck Bond glass Stainless steel pressure insert included in 4" tooling Stainless steel pressure disc Bond tool 70 mm x 70 mm universal (set): For thermo compression bonding process Bond chuck with mechanical clamping Loading chuck Bond glass Stainless steel pressure insert included in 4" tooling Stainless steel pressure disc Bond tool 4" universal (set): For anodic and thermo compression bonding process Bond chuck with mechanical clamping Loading chuck Bond glass With electrode and glass pressure insert Stainless steel pressure insert for TCB Separation flags Stainless steel pressure disc for TCB Bond tool 6" universal (set): For anodic and thermo compression bonding process Bond chuck with mechanical clamping Loading chuck Direct wafer clamping With electrode (glass pressure insert included in 4" tooling) Separation flags Stainless steel pressure disco for TCB Loading chuck 4" for wafer and shadow masks: For loading and alignment For autoloading with through holes Recess for clamps Remains on EVG 620 shadow mask aligner Chuck frame 4" for wafer and shadow mask: For fixing insert Recess for clamps Supports the insert to hold the alignment stack Remains on EVG 620 shadow mask aligner Shadow mask / wafer holder with 4" clamps: For clamping substrates Includes: clamps used to carry aligned Clamped stack to further processing 2003 vintage.
EVG/EV GROUP 620は、優れたレベルのアライメント精度を提供できる高度なマスクアライナーです。精密な制御アルゴリズムとモジュラープラットフォームを組み合わせた高度なイメージング技術を使用して、パフォーマンスを最適化します。完全に自動化されたプロセスにより、マスクアライナーは最大5ミクロンの高精度を保証し、非常に困難な設計とその後のリソグラフィ工程の製造に最適です。EVG 620は、20〜6000ミクロンのサイズ範囲の画像を撮影することができる高解像度イメージングシステムを提供しています。精密な画像処理技術に加えて、ユーザーが露光時間、照明レベル、フォーカスポジションなどのパラメーターを調整できるユーザーフレンドリーな機能と機能的なコントロールが搭載されています。EV GROUP 620は、部品が適切に露出されていることを確認するために、基板の配置において高精度を可能にする特別な電動ステージを使用しています。このマシンには高度なリピートアライメント機能が装備されており、部品が意図したパターンと整合性を保つのに役立ちます。さらに、このシステムにはオプションのパーティクルフィルターを装備することで、露出プロセス中の汚染を低減することができます。マスクアライナーの製造とメンテナンスのために、機械は取り外し可能なノズルとさまざまなモジュールへのアクセスを提供する電子制御パッケージを所有しています。幅広いリソグラフィ材料とプロセスに対応し、幅広い基板との互換性を確保します。さらに、開閉サイクルプロセスオプションも装備されているため、あらゆるサイズのウエハフィットの製造に最適です。結論として、620は高度で信頼性の高いマスクアライナーを提供します。高精度でリピートアライメント機能により、精密なイメージングプロセスと簡単なメンテナンスが可能です。ユーザーフレンドリーな機能と幅広い互換性のあるプロセスにより、あらゆるサイズのウェーハ製作に適しています。最終的に、このマシンは最適なリソグラフィ性能を達成するための効率的なソリューションです。
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