中古 EVG / EV GROUP 620 #9144780 を販売中

EVG/EV GROUP 620は、マスク、ウェーハ、基板を正確かつ正確にアライメントするために設計されたハイエンドのフォトリソグラフィックマスクアライナーです。露出マスクを最大限の精度と精度で基板にアライメントすることができるCMA （Computer-to-Mask Aligner）です。このシステムは、半導体および電子部品の解像度1 μ mのステンシルをパターン化することができます。EVG 620には、基板の正確なアライメントを提供する2つのステッピングモータ駆動XYモーションプラットフォームがあります。これらのプラットフォームは、露出マスクを保持するモーションプラットフォームを駆動し、2つの軸で正確に移動することができます。これは、特定のパターンやデザインを保持するマスクと組み合わせることで、低いずれや変位と接触することなく基板やウェーハを転送することが可能になります。EV GROUP 620は、写真リソグラフィープロセスに精密なアライメントを提供するだけでなく、オートフォーカス機能も備えています。オートフォーカスは、露光プロセスが始まる前に基板が正確かつ正確にスキャンされることを保証し、プロセス全体が最適な方法で実行されることを確認します。620は、簡単な操作とセットアップを可能にする直感的で明確なグラフィカルユーザーインターフェイスが付属しています。これにより、正確で迅速な位置決めが可能になり、写真リソグラフィのプロセス全体を迅速かつシームレスに完了できます。さらに、EVG/EV GROUP 620はモジュール式に設計されており、お客様のニーズの変化に合わせて簡単にアップグレードできます。これにより、ラインの下方に潜在的なアップグレードのための柔軟性を可能にします。最後に、EVG 620は高度に構成可能であり、特定のアプリケーションに合わせてカスタマイズすることができます。高精度なアライメントや微細なファインライン作業用であれ、EV GROUP 620はお客様のさまざまな要求に応じて設定することができます。620は、露出マスクと基板の正確かつ正確なアライメントを提供するハイエンドのフォトリソグラフィックマスクアライナーで、統合されたオートフォーカスシステムと明確なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えています。モジュール式でカスタマイズ可能で、アップグレードが可能で、シームレスな操作と最大限のユーザー満足度を実現します。