中古 EVG / EV GROUP 610 #9197737 を販売中

EVG/EV GROUP 610は、リソグラフィ工程で使用される最先端の精密マスクアライナーです。フォトリソグラフィで使用される高度なフォトマスクやレチクルの製造用に特別に設計されており、特に次世代の処理ノード用に設計されています。これらのマスクアライナーは、± 1nmのパターン精度を達成するために、ダブルシャッター、リソグラフィーベースの機器を使用しています。EVG 610は、機械部品、電気部品、ソフトウェアコンポーネントのユニークな組み合わせを備えており、正確なアライメントと再現可能なプロセス結果を提供します。EV GROUP 610は、複数の選択可能なレーザー波長とパワーレベルを使用して高解像度と高精度のダイオードレーザーユニットを備えた先進的な光学システムを備えています。これにより、最先端のノードでのフォトマスクやレチクルの製造に最適です。レーザーはまた、オーバーハング構造の高度なフォトマスクを使用しても、高精度のアライメントと登録を可能にします。さらに、610のレーザーは高強度で反射率が低く、さまざまなフォトマスクの製造に最適です。EVG/EV GROUP 610は、ウェーハの効率的なアライメントと加工を可能にする自動基板処理機を備えています。これには、自動フィーダとオプションの自動基板ローダーが含まれているため、生産ニーズに最適です。サーボ制御のウェーハおよびレチクルステージは、1。5nmの再現性で超高精度と精度を提供します。ステージには、最適化された部品移動のための高度なモーションコントロールアルゴリズムと、正確な部品配置のための電動ロール補正モジュールも搭載されています。EVG 610は、高精度で固定位置のUV投影アセットを含む多目的露光ツールを備えています。このモデルは、高精度なリソグラフィ用途のための正確で再現性のある登録を保証します。また、EV GROUP 610は、パターン認識アルゴリズムを統合した完全自動露出制御装置を提供し、高速で信頼性の高い動作を実現します。最後に、610は、統合された0 セグメントCCDカメラシステムを含む高度なウエハトラッキングおよび監視機能を備えています。この統合ユニットは、高度な欠陥認識アルゴリズムとダウンストリームプロセス追跡システムとの統合を備えています。さらに、オプションのソフトウェアパッケージには、3D最適化アルゴリズム、強化された欠陥認識機能、プロセス監視などの高度な機能があります。全体として、EVG/EV GROUP 610は、高精度リソグラフィ処理のための高度な機能を備えた最先端のマスクアライナーです。光学部品、機械部品、電気部品、ソフトウェア部品の組み合わせにより、最先端のフォトマスクやレチクルの製造に最適です。さらに、オートメーションマシンと欠陥認識機能により、プロセスの効率が向上し、再現性のある信頼性の高い結果が得られます。