中古 EVG / EV GROUP 40 #9232667 を販売中

|EVG/EV GROUP 40マスクアライナーは、高精度で効率的なマイクロリソグラフィーツールで、さまざまな基板にパターンを配置して露出することができます。マスクアライナーの精度は、0。6 μ mの高度な垂直分解能と、投影された画像を最適に配置するために最大10 µmの再現性レートに由来します。この精度により、パターンがより長期的に基板に正確に露出され、基板がその後のリソグラフィプロセス工程に備えることができます。|EVG 40マスクアライナーの高度なステージデザインは、アライメントプロセスの前に極端な精度と再現性を保証します。ステージは0。05 μ mの再現性と0。3 μ mの位置決め精度で最大600 mmの移動が可能です。これにより、基板がフェイスダウンアライメント用に適切に準備され、繰り返し正確に露出することができます。このステージデザインは、同じパターンを複数の基板に露出させながら、高精度なパターンのシフトを可能にします。|EV GROUP 40マスクアライナーは、効率的な生産加工を容易にするため、高効率マスクローダーを搭載しています。使いやすいローダーは、最大40枚のマスクを保管し、これらのマスクを整然とインデックスするように設計されており、生産全体の一貫性を確保します。この迅速かつ正確なマスク積載プロセスは、生産時間をさらに改善し、エラーのリスクを最小限に抑えます。また、|EVG/EV GROUP 40マスクアライナーは、高効率のプロジェクションディスプレイシステムにより、大量生産を容易にすることができます。0。6 μ mの露光分解能と最大1056 x 2032ドットの高解像度投影ディスプレイにより、さまざまな基板上に多種多様なリソグラフィ構造を同時に生成するように設計されています。これにより、より迅速で正確な生産処理が保証されます。|EVG 40マスクアライナーは、生産プロセスのすべてのステップを観察し、監視するためにも設計されています。内部に搭載されたCCDカメラと、リアルタイムイメージングを記録および処理する自動利得検出システムを搭載し、プロセス精度を大幅に向上させます。|EV GROUP 40マスクアライナーは、基板上のパターンの正確なマスクアライメントと露出のための効率的なマイクロリソグラフィーツールです。その高度なステージ設計により、極めて精度と再現性が保証され、効率的な機能により、幅広いリソグラフィ用途に適しています。内蔵のモニタリングシステムは、プロセス監視をさらに確実にし、生産パフォーマンスを向上させます。