中古 ELS TECHNOLOGY ELS 106SA #9161431 を販売中
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ID: 9161431
ウェーハサイズ: 2"-4"
Mask aligner, 2"-4"
Sapphire wafers
Mask holder:
Mask size: 1.4 inch × 4 inch : 101.2mm × 101.2mm
Thickness: 1.6mm ± 0.2mm
Mask size: 2.5 inch × 5 inch : 126.6mm × 126.6mm
Thickness: 2.3mm ± 0.2mm
Method:
Pre-alignment: Stopper pin
Mask fixture: By vacuum
Substrate size: Φ2 inch sapphire wafer
Diameter: 50.8mm ± 0.2mm.
Thickness: 430um ± 25um
Substrate size: Φ2.5 inch sapphire wafer
Diameter: 61.75mm ± 0.2mm
Thickness: 430um ± 25um
Substrate size: Φ4 inch sapphire wafer
Diameter: 100mm ± 0.5mm
Thickness: 500um ~ 1000um ± 25um
Material: Aluminum
Method:
Loading / Unloading: By manual
Pre-alignment: Stopper pin
Substrate fixture: By vacuum
Stroke:
Item Driver Range Resolution
X axis Manual ±5mm 1um
Y axis Manual ±5mm 1um
Z axis AC Servo motor 0~1000um 1um
θ axis Manual ±5° 0.0001°
Parallelism compensation: Uniball mechanism
Contact pressure: 0~0.17N/ cm2
Alignment accuracy: ±1um
Lamp house:
Lamp: 500W Hg Arc lamp
Lamp is easy replace
Exposure area: 150mm × 150mm
Main wavelength:
Item Wavelength Light intensity Uniformity
i line 365nm >28mW/cm2 Within ±3%
h line 405nm >40mW/cm2 Within ±3%
g line 436nm >40mW/cm2 Within ±3%
Exposure function, 4"
Print resolution:
Item Wavelength Printing resolution Adjustment
Software contact 365nm 2um
Hard contact 365nm 1um
Vacuum contact 365nm 0.8um
Proximity 365nm >3um 0~1000um
Resist: AZ-5214E
Thickness: 1um
Utility:
Voltage: 3ψ4W 220VAC 50/60 Hz, 5KVA
Dry air: 6Kg/cm2 , 200L/min, Φ10mm
N2: 6Kg/cm2, 100L/min, Φ10mm
Vacuum: -1~0.8Kg/cm2, 200L/min, Φ10mm
Outline:
Substrate size: Φ2 inch sapphire wafer
Diameter: 50.8mm ± 0.2mm
Thickness: 430um ± 25um
Substrate size: Φ2.5 inch sapphire wafer
Diameter: 61.75mm ± 0.2mm
Thickness: 430um ± 25um
Substrate size: Φ4 inch sapphire wafer
Diameter: 100mm ± 0.5mm
Thickness: 500um ~ 1000um ± 25um
Mask size: 1. 4 inch × 4 inch : 101.2mm × 101.2mm
Thickness: 1.6mm ± 0.2mm
Mask size: 2.5 inch × 5 inch : 126.6mm × 126.6mm
Thickness: 2.3mm ± 0.2mm
Application:
ULD Stage
Leveling unit
Mask holder
Alignment unit
Exposure
Alignment accuracy and auto leveling: ±1um
AC Servo motor with pressure sensor for Z axis driving
Alignment with CCD modules
Easy to operate
2008-2010 vintages.
ELS TECHNOLOGY ELS 106SAは、標準サイズの半導体ウェーハを製造するための高度な技術駆動機能を備えた最先端のマスクアライナーです。装置は、ウェーハにマスクを正確に配置するために、カスタム設計、温度制御、プログラム可能なエレクトロニクスソースによって駆動されます。また、マルチステーションのプリアライメント機能も組み込まれており、マスクとウェーハの迅速で正確で費用対効果の高いアライメントを保証します。ELS 106SAマスクアライナーは、+/-1。5ミクロンの精度と0。1ミクロンの最大位置分解能で優れたマスクアライメント精度を提供します。高解像度のXYステージは、ステッピングモーター駆動の滑らかなモーションコントロールと、別々に調整可能な速度と加速を提供します。この機能により、ユーザーは正確にウェーハをマスクに合わせることができます。さらに、ELS TECHNOLOGY ELS 106SAには、大型または小型マスクの優れたアライメントを保証する精密光学システムが装備されています。ELS 106SAマスクアライナーには、信頼性が高く、ユーザーフレンドリーで直感的なユーザーインターフェイスが付属しており、ユニットを簡単にセットアップしてアライメント結果を監視できます。ユーザーはまた、効率的な生産性とプロセスの最大限の制御のために、機械パラメータのリアルタイム表示にアクセスすることができます。それはプログラムの機能への容易なアクセスのためのWindowsベースのPC、モニターおよびキーボードを含んでいます。ELS TECHNOLOGY ELS 106SAマスクアライナーは、マスクレベルの位置を正確に調整し、アライメント操作を検証するための計測タイルで設計されています。これは、マスクアライメントの均一性を維持するのに役立ち、アライメントプロセスの欠陥を検出するのに役立ちます。アセットの精度の位置誤差をすばやく調整するために、統合された調整補正ツールも利用できます。ELS 106SAには、変形のないイメージング技術を使用した高度なデジタル画像相関（DIC）アライメントモデルが搭載されており、マスクのアライメントプロセスに関する正確なリアルタイムフィードバックを提供します。このDIC装置は、ウエハの反りを追跡しながら、非球面の特徴のずれを測定するように構成することができます。このシステムはまた、リモート制御と監視を可能にする強力なソフトウェアプラットフォームを提供しています。また、幅広い外部入出力インタフェースを内蔵し、真空プラズマプロセス破断の堅牢性を備えており、非常に安定した動作を実現しています。ELS TECHNOLOGY ELS 106SAマスクアライナーは、半導体集積回路の製造に最適な高性能ユニットです。大型マスクや小型マスクの正確な配置に最適な高度な機能と技術を搭載し、産業環境での使用にも適しています。
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