中古 DNK MA-4200 #293762485 を販売中

DNK MA-4200は、半導体産業におけるリソグラフィーマスク製造用に開発された高精度マスクアライナーです。フォトリソグラフィで使用される基板に不透明で透明なフォトマスクを配置するために設計されており、マスクまたは基板の変位のために2 μ mの範囲内で基板にフォトマスクを正確かつ一貫したアライメントを提供することができます。アライナーは30X対物レンズと改良されたアライメント装置を備えており、最適な画像形成とマスクから基板へのアライメント機能の向上を実現しています。アライナーは、レーザダイオードを使用して基板にフォトマスクを投影することで機能し、高精度で精密なアライメントを提供します。インタラクティブな登録システムにより、オペレータは基板上の登録マークを簡単に識別して調整することができ、高解像度カメラは処理用のアライメントイメージを取得します。カメラユニットには高度なアルゴリズムベースの画像認識（AAIR）技術が搭載されており、登録マークのサイズや位置、フォトマスクの他の機能を正確かつ正確に測定できます。このツールは、高速かつ正確な基板移動のために500mm/sで正確に校正されデジタル制御された改良された基板テーブルを備えています。このテーブルには、さまざまな基板のニーズを満たすために適切な計量性能の選択を可能にする手動および自動ライトマシンも備えています。アライナーには、水平方向および垂直方向のマスク反転、マスクフリップ、スクリーンシフト操作など、さまざまな操作が装備されており、素早く正確なアライメント調整が可能な手動基板シフト機能を備えています。DNK MA4200は、ユーザーフレンドリーなグラフィカル制御ソフトウェアで設計されており、アライナーを簡単かつ正確に操作できます。さらに、自動欠陥検出（AD）機能により、オペレータはフォトマスクの実際の障害点をすばやく特定できます。アライナーには、追加の位置精度を提供するオプションのエッジ検出ツールも備えています。これにより、半導体産業で使用されるリソグラフィーマスクの製造に最適です。