中古 CANON PLA 521FA #9170315 を販売中

CANON PLA 521FAは、半導体デバイスの精密加工用に設計されたマスクアライナーです。自動化されたプログラマブルで構成可能な装置で、片面と両面の両方のプロセスで優れた品質のウェーハを製造することができます。CANON PLA 521 FAは、フルフィールドUV （UV）照明と高度なフォトマスク/基板アライメントシステムを備えています。基板の両側に2つのカメラと2つのアライメントマークを使用して、高精度の基板フォーカスとアライメントを可能にします。さらに、基板の熱応力を低減し、プロセス歩留まりを向上させるように設計された高度な基板サポートを備えています。さらに、200x200 mm2の最大視野（FOV）でサブミクロンの精度アライメントを可能にします。PLA 521FAは、スタンダードとスーパーの2モデルを提供しています。スタンダードモデルは、13。5kWのUV水銀ランプ、デジタル-アナログコンバータ（DAC）シャッター、最大基板面積800x800mm2を備えています。一方、Superモデルには30kWのUVキセノンランプ、アナログ-ディジタルコンバータ（ADC）シャッター、最大基板面積3200x3200mm2が搭載されています。使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を備えたPLA 521 FAは、アライメント速度の高速化と生産歩留まりの向上に関するパフォーマンスも向上しています。高度なソフトウェアとハードウェア機能を搭載しており、高速でリアルタイムなアライメントが可能です。また、アライメントとイメージングシステムを使用した高精度のモニタと制御も可能です。CANON PLA 521FAは、精度の高さに加え、堅牢性と耐久性にも優れています。腐食に抵抗し、最適な性能を維持し、装置の耐用年数を最大にするように設計されています。また、以前のモデルと比較して最大40％の電力消費を削減できるため、エネルギー効率も高くなります。また、耐振動性に優れ、最適な性能を確保するため、防塵、軽量、オペラ防止の環境に収まるように設計されています。全体として、CANON PLA 521 FAは、高精度の半導体製造に最適な優れたマスクアライナーです。その高度な機能、堅牢なビルド、信頼性の高いパフォーマンスは、精度と精度を必要とするユーザーにとって理想的な選択肢です。