中古 CANON PLA 501 FA #9328963 を販売中
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タップしてズーム
ID: 9328963
ウェーハサイズ: 5"
Mask aligner, 5"
Gases:
N2:
Maximum pressure: 3.5 kg/cm²
Maximum flow: 10 LPM
Pipe: SUS316
Connector: SWAG
Caliber inch: 1/4"
CDA
Vacuum
Mercury lamp: 250 W
Wafer exposure, 5"
Ground: 1 ohm
Manual included
Power supply: 220 V, Single phase, 3-wires, 1.6 A
Lamp power supply: 110 V, Single phase, 3-wires, 5.5 A.
CANON PLA 501 FAは、発光ダイオード(LED)、レーザー、太陽光発電(PV)など、ナノメートルスケールの光電子デバイス製造アプリケーションで使用するために設計されたマスクアライナーです。フォトマスクの高解像度パターンに正確に合わせるだけでなく、有機材料を整列させて所望の形状にエッチングするために使用できる汎用性の高い機械です。キヤノンPLA-501FAは、機械部品と光学部品の組み合わせにより、アライメントとオーバーレイプロセスの精度と精度に優れています。基板にマスクを配置するための高精度のモーター駆動X-yステージと、フォトマスクのエッジとオーバーレイを検出するためのレーザーダイオード光源が含まれています。CCDイメージングデバイスを使用すると、オペレータは簡単にアライメント、オーバーレイ、エッチング操作を実行できます。イメージング機能に加えて、オペレータがx-yステージで基板を固定できる真空チャックと、フォトマスクの正確な位置決めを可能にする調整可能な高さ自由空間アライメントパッケージが装備されています。PLA 501FAは、0。35 μ mのスキャナを介して高解像度のパターンを提供し、1。5 m/sでスキャンすることができます。また、最大1,000X倍の倍率を可能にする光学ズームを備えており、正確なアライメントとエッチング操作を可能にします。最後に、このマシンにはキャリブレーションとテストチャートが装備されており、ユーザーはマシンが正確かつ正しい解像度で動作していることを確認できます。PLA-501FAは、光電子デバイス製造アプリケーションに最適です。精度、速度、精度を兼ね備えているため、ナノメートルスケールのデバイスを作成するための要求の厳しいプロセスに特に適しています。その汎用性により、マイクロエッチングや有機・無機材料の製造など、さまざまな用途にも使用できます。
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